[实用新型]等离子体增强磁控溅射系统

摘要

本实用新型提供一种等离子体增强磁控溅射系统，该系统包括真空室、非平衡磁控溅射阴极、样品架和等离子体发生器，样品架和非平衡磁控溅射阴极都设置在真空室内，且非平衡磁控溅射阴极位于样品架的上方；等离子体发生器与真空室连通；等离子体发生器用于对注入其内的气体进行等离子体化，并将气体的等离子体输送至真空室内；非平衡磁控溅射阴极用于对气体的等离子体进一步电离，并溅射靶材，产生气源沉积到样品架上的衬底上。通过本实用新型，可以使单位时间内轰击到样品架上衬底表面的等离子密度增大，由此可以提高薄膜质量；另外可以提高薄膜的致密度并降低沉积薄膜的成本。

主权项

一种等离子体增强磁控溅射系统，其特征在于，包括真空室、非平衡磁控溅射阴极、样品架和等离子体发生器，所述样品架和所述非平衡磁控溅射阴极都设置在所述真空室内上，所述非平衡磁控溅射阴极位于所述样品架上方，并等间距分布在所述真空室内壁同一水平面上，以提高所述非平衡磁控溅射阴极的溅射功率；所述等离子体发生器与所述真空室的上端连通，所述样品架设置在所述真空室的下端；所述等离子体发生器用于对注入其内的工作气体和反应气体这两种气体进行等离子体化，并将所述气体的等离子体输送至所述真空室内；所述非平衡磁控溅射阴极用于对所述气体的等离子体进一步电离并溅射靶材，产生气源沉积到固定在所述样品架上的衬底上；所述系统还包括初级旋转轴，所述初级旋转轴用于带动所述样品架旋转；所述初级旋转轴与直流脉冲电源连接，以使所述直流脉冲电源通过所述初级旋转轴向所述样品架提供负向偏置电压，从而使所述衬底处于负电势状态下。