[实用新型]研磨机或抛光机的上盘结构有效
| 申请号： | 201720223985.3 | 申请日： | 2017-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN206588801U | 公开（公告）日： | 2017-10-27 |
| 发明（设计）人： | 李创宇;范镜;吴秀凤 | 申请（专利权）人： | 深圳赛贝尔自动化设备有限公司 |
| 主分类号： | B24B47/04 | 分类号： | B24B47/04;B24B29/00;B24B41/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明新*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种研磨机或抛光机的上盘结构，包括机架、上磨盘升降机构、复数个上磨盘和与上磨盘数量相同的上磨盘驱动机构，研磨机或抛光机包括下盘，一部分上磨盘回转轴线离下盘公转轴线的间距与另一部分上磨盘回转轴线离下盘公转轴线的间距不同。本实用新型因为一部分上磨盘回转轴线离下盘公转轴线的间距与另一部分上磨盘回转轴线离下盘公转轴线的间距不同，上磨盘回转中心对工件加工的负面作用可以相互抵消，工件表面加工均匀、表面粗糙度一致性好。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨机 抛光机 上盘 结构 | ||
【主权项】：
一种研磨机或抛光机的上盘结构，包括机架、上磨盘升降机构、复数个上磨盘和与上磨盘数量相同的上磨盘驱动机构，研磨机或抛光机包括下盘，其特征在于，一部分上磨盘回转轴线离下盘公转轴线的间距与另一部分上磨盘回转轴线离下盘公转轴线的间距不同。
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