[实用新型]一体化连续式等离子清洗设备有效
| 申请号： | 201720218253.5 | 申请日： | 2017-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN207170419U | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 郭艳平;解武波 | 申请（专利权）人： | 中山天誉真空科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙)44286 | 代理人： | 邹常友 |
| 地址： | 528437 广东省中山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一体化连续式等离子清洗设备，其特征在于包括支撑架及传送台，支撑架包括安装底架及顶架，底架上安装有下密封台及升举气缸，顶架上安装有上真空罐及下推气缸，所述上真空罐与升举气缸及下推气缸连接，从而实现升降动作，所述下密封台上设有导向槽，所述传送台上的传送带位于导向槽内，且传送带的上表面高于下密封台表面，所述上真空罐的两侧设有密封凹槽，所述上真空罐的开口边缘及密封凹槽内均设有密封胶条，从而当上真空罐下降与下密封台紧密接触时能够形成真空腔体，所述传送带能够嵌入密封凹槽。 | ||
| 搜索关键词： | 一体化 连续 等离子 清洗 设备 | ||
【主权项】：
一体化连续式等离子清洗设备，其特征在于：包括支撑架及传送台，支撑架包括安装底架及顶架，底架上安装有下密封台及升举气缸，顶架上安装有上真空罐及下推气缸，所述上真空罐与升举气缸及下推气缸连接，从而实现升降动作，所述下密封台上设有导向槽，所述传送台上的传送带位于导向槽内，且传送带的上表面高于下密封台表面，所述上真空罐的两侧设有密封凹槽，所述上真空罐的开口边缘及密封凹槽内均设有密封胶条，从而当上真空罐下降与下密封台紧密接触时能够形成真空腔体，所述传送带能够嵌入密封凹槽。
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