[实用新型]多功能真空离子镀膜机有效
申请号: | 201720158499.8 | 申请日: | 2017-02-22 |
公开(公告)号: | CN206494965U | 公开(公告)日: | 2017-09-15 |
发明(设计)人: | 张笑 | 申请(专利权)人: | 上海仟纳真空镀膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/35 |
代理公司: | 北京君泊知识产权代理有限公司11496 | 代理人: | 王程远 |
地址: | 201100 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种多功能真空离子镀膜机,其包括真空室等,真空室固定在零电位环内,真空室上端固定有电解传感器,真空室下端固定有灭弧检测器,真空室表面固定有第一中频磁控溅射接口、第二中频磁控溅射接口、导电工件转架,中频磁控溅射源一端与第一中频磁控溅射接口相连,中频磁控溅射源另一端与第二中频磁控溅射接口相连,导电工件转架上固定有中频溅射源,等离子电弧蒸发源阳极与零电位环相连。本实用新型通过脉冲偏压电源产生离子轰击实现工件的镀膜加工,可以制备纯金属膜、合金膜和反应膜层,应用的镀膜产品类型丰富,膜层附着均匀且附着效果好。 | ||
搜索关键词: | 多功能 真空 离子 镀膜 | ||
【主权项】:
一种多功能真空离子镀膜机,其特征在于,其包括真空室、电解传感器、导电工件转架、脉冲偏压电源、等离子电弧蒸发源、电弧电源、中频溅射源、溅射靶、溅射法兰、第一中频磁控溅射接口、第二中频磁控溅射接口、中频磁控溅射源、中频电源、气体离子源、灭弧检测器、零电位环,真空室固定在零电位环内,真空室上端固定有电解传感器,真空室下端固定有灭弧检测器,真空室表面固定有第一中频磁控溅射接口、第二中频磁控溅射接口、导电工件转架,中频磁控溅射源一端与第一中频磁控溅射接口相连,中频磁控溅射源另一端与第二中频磁控溅射接口相连,导电工件转架上固定有中频溅射源,等离子电弧蒸发源阳极与零电位环相连,等离子电弧蒸发源阴极与导电工件转架相连,电弧电源阳极与零电位环相连,电弧电源阴极连接至真空室,脉冲偏压电源阳极连接至真空室表面,脉冲偏压电源阴极与导电工件转架相连,溅射靶固定在真空室内部,溅射靶上固定有溅射法兰、八个中频电源、两个气体离子源。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海仟纳真空镀膜科技有限公司,未经上海仟纳真空镀膜科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201720158499.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种蚁群寻优方法及装置
- 下一篇:一种光学零件用窄挡边镀膜夹具
- 同类专利
- 专利分类