[实用新型]一种圆形平面靶磁控溅射基片运动装置

摘要

一种圆形平面靶磁控溅射基片运动装置，其特征在于其包括真空室，所述真空室内上部设置有一行星基片架，真空室侧壁底部设置有一抽气孔和一充气孔，所述行星基片架包括自转电机、公转电机、减速装置、公转轴、中齿轮一、中齿轮二、连接轴、小齿轮、若干自转齿轮、若干自转轴、公转盘以及若干工件夹。本实用新型结构简单，安装方便，通过使用自转基片与溅射靶的偏心布置有效的增大膜层的面积，采用基片的自转加公转的复合运动形式大大的提高了膜厚的均匀性，并且可通过自行设计合适的公自转转速比，从而改变基片上的运动轨迹，以达到在基片的较大面积范围内能得到均匀膜层的目的，有效的提高了镀膜效率。

主权项

一种圆形平面靶磁控溅射基片运动装置，其特征在于：其包括真空室，所述真空室内上部设置有一行星基片架，真空室侧壁底部设置有一抽气孔和一充气孔，所述行星基片架包括自转电机、公转电机、减速装置、公转轴、中齿轮一、中齿轮二、连接轴、小齿轮、若干自转齿轮、若干自转轴、公转盘以及若干工件夹，公转电机和减速装置固定在真空室顶壁上方，公转电机输出端外接减速装置，减速装置的输出端与公转轴连接，该公转轴进入真空室后自上而下依次穿过中齿轮一、中齿轮二并与两中齿轮均通过轴承固定，所述公转盘螺栓连接于公转轴端部，该公转盘沿其周向均匀设置有若干圆通孔，其中一个圆通孔下方安装有一个加热器一，所述若干自转轴均穿过圆通孔并通过轴承与公转盘固定，每个自转轴下端与工件夹固定、上端与自转齿轮固定，所述自转齿轮与中齿轮二啮合传动，所述自转电机垂直固定于真空室顶壁，其输出端与连接轴连接，所述小齿轮套固于连接轴端部，所述小齿轮与中齿轮一啮合传动，真空室内底部上还安装有加热器二和磁控溅射靶，该加热器二位于工件夹正下方，磁控溅射靶位于工件夹边缘的下方。