[发明专利]一种OLED结构尺寸优化设计方法及设备

摘要

本发明公开了一种OLED结构优化设计方法及设备，属于OLED领域。该方法包括如下步骤：步骤1：确定OLED工作波长λ，OLED各层材料的光学常数，OLED各层材料的厚度设计初值，OLED中各向异性材料的主轴方位角θ、ψ；步骤2：根据步骤1确定的各个参数建立OLED的多膜层堆叠光学模型，并调整阴极、阴极修饰层、发光层、空穴传输层、空穴注入层、阳极以及基底中待优化的结构层的厚度，进行仿真实验，获得OLED在不同结构厚度时的外耦合效率，从而确定外耦合效率最高的结构厚度。该设备用于执行上述方法。本发明可以实现对OLED结构尺寸的仿真优化计算，原理简单，容易操作。

主权项

1.一种OLED结构优化设计方法，用于优化OLED的阴极、阴极修饰层、发光层、空穴传输层、空穴注入层、阳极以及基底中至少一个结构层的厚度，其特征在于，包括如下步骤：步骤1：确定OLED工作波长λ，OLED各层材料的光学常数，OLED各层材料的厚度设计初值，OLED中各向异性材料的主轴与实验室坐标系x轴、y轴和z轴三个方向的夹角θ、ψ；步骤2：根据步骤1确定的各个参数建立OLED的多膜层堆叠光学模型，并调整阴极、阴极修饰层、发光层、空穴传输层、空穴注入层、阳极以及基底中待优化的结构层的厚度，进行仿真实验，获得OLED在不同结构厚度时的外耦合效率，从而确定外耦合效率最高的结构厚度。