[发明专利]一种包覆MOF提高金纳米团簇光稳定性的方法及其应用有效

专利信息
申请号: 201711475768.4 申请日: 2017-12-29
公开(公告)号: CN108213414B 公开(公告)日: 2020-04-21
发明(设计)人: 崔晓峰;凌山;吴健;周煜;王钧伟;秦伟;张元广 申请(专利权)人: 安庆师范大学
主分类号: B22F1/02 分类号: B22F1/02;C25B11/06;B82Y40/00;B82Y30/00
代理公司: 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙) 34124 代理人: 王志兴
地址: 246133 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种包覆MOF提高金纳米团簇光稳定性的方法,该方法包括以下步骤:在金纳米团簇表面液相原位包覆薄层金属有机框架作为包覆层;所述金属有机框架为沸石咪唑酯骨架结构材料,所述包覆层的厚度为0.5~10nm。还公开了有上述方法制备得到的金属有机框架包覆金纳米团簇复合材料以及其在光催化还原CO2反应中的应用。本发明的优点在于:采用原位生长法包覆薄层MOF,不通过表面修饰直接在金纳米团簇包覆MOF,从而提高其光稳定性,该方法为低温液相湿法合成法,对金纳米团簇的性能不会造成任何影响,并且方法工艺简单,反应条件温和、可控性强、能耗低、易于规模化推广应用。
搜索关键词: 一种 mof 提高 纳米 团簇光 稳定性 方法 及其 应用
【主权项】:
1.一种包覆MOF提高金纳米团簇光稳定性的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:在金纳米团簇表面液相原位包覆薄层金属有机框架作为包覆层;所述金属有机框架为沸石咪唑酯骨架结构材料,所述包覆层的厚度为0.5~10nm。
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