[发明专利]一种薄膜沉积装置及沉积方法在审
申请号: | 201711458954.7 | 申请日: | 2017-12-28 |
公开(公告)号: | CN108103450A | 公开(公告)日: | 2018-06-01 |
发明(设计)人: | 彭寿;马立云;潘锦功;殷新建;蒋猛;钱双 | 申请(专利权)人: | 成都中建材光电材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/26 | 分类号: | C23C14/26;C23C14/06 |
代理公司: | 成都市集智汇华知识产权代理事务所(普通合伙) 51237 | 代理人: | 李华;温黎娟 |
地址: | 610000 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开一种薄膜沉积装置及沉积方法,用于在衬底上沉积薄膜,所述沉积装置包括用于加热原料的第一加热腔和第二加热腔,所述第一加热腔设有用于将所述第一加热腔内的原料气化后的气体导出的第一气体出口,所述第二加热腔设有用于将所述第二加热腔内的原料气化后的气体到处的第二气体出口,所述第一气体出口和第二气体出口均连通至气体扩散狭缝,所述气体扩散狭缝的出口设置有喷涂盖板,所述喷涂盖板朝向衬底装置。该装置可以制备出薄厚均匀的薄膜并且可以实现掺杂气体的均匀分布,在成膜时掺杂元素可以分布均匀。 | ||
搜索关键词: | 气体出口 第二加热腔 第一加热腔 薄膜沉积装置 气体扩散 原料气化 盖板 喷涂 狭缝 沉积 掺杂气体 掺杂元素 沉积薄膜 沉积装置 衬底装置 加热原料 衬底 成膜 导出 制备 薄膜 连通 出口 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜沉积装置,用于在衬底上沉积薄膜,其特征在于,所述沉积装置包括用于加热原料的第一加热腔和第二加热腔,所述第一加热腔设有用于将所述第一加热腔内的原料气化后的气体导出的第一气体出口,所述第二加热腔设有用于将所述第二加热腔内的原料气化后的气体导出的第二气体出口,所述第一气体出口和第二气体出口均连通至气体扩散狭缝,所述气体扩散狭缝的出口设置有喷涂盖板,所述喷涂盖板朝向衬底装置。
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