[发明专利]一种多缺口椭圆完美涡旋光束掩模板的设计方法有效
申请号: | 201711443997.8 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN108121067B | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | 台玉萍;马海祥;李新忠;李贺贺;唐苗苗;王静鸽 | 申请(专利权)人: | 河南科技大学 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B27/09 |
代理公司: | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 孙笑飞 |
地址: | 471000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: |
本发明公开了一种多缺口椭圆完美涡旋光束掩模板的设计方法,包括以下步骤:步骤一、将两个椭圆坐标系下拓扑荷不同的整数阶的螺旋相位因子E |
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搜索关键词: | 一种 缺口 椭圆 完美 涡旋 光束 模板 设计 方法 | ||
【主权项】:
一种多缺口椭圆完美涡旋光束掩模板的设计方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一、将两个椭圆坐标系下拓扑荷不同的整数阶的螺旋相位因子Ev1、Ev2相结合,得到Ev1+Ev2,对Ev1+Ev2求相位,得到angle(Ev1+Ev2);步骤二、得到多缺口椭圆完美涡旋的螺旋相位因子Ev,Ev的表达式为:Ev=exp[i·angle(Ev1+Ev2)]其中,angle(.)表示对复数求相位的函数;将螺旋相位因子Ev与椭圆锥透镜复透过率函数ta相结合,得到光电场表达式taEv;步骤三、根据计算全息技术,使光电场表达式taEv与平面波Ep干涉后,求模取平方,得到干涉光强图,该干涉光强图即为多缺口椭圆完美涡旋光束掩模板掩模板t。
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