[发明专利]一种多缺口椭圆完美涡旋光束掩模板的设计方法有效

专利信息
申请号: 201711443997.8 申请日: 2017-12-27
公开(公告)号: CN108121067B 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 台玉萍;马海祥;李新忠;李贺贺;唐苗苗;王静鸽 申请(专利权)人: 河南科技大学
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B27/09
代理公司: 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 代理人: 孙笑飞
地址: 471000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了一种多缺口椭圆完美涡旋光束掩模板的设计方法,包括以下步骤:步骤一、将两个椭圆坐标系下拓扑荷不同的整数阶的螺旋相位因子Ev1、Ev2相结合,得到Ev1+Ev2,对Ev1+Ev2求相位,得到angle(Ev1+Ev2);步骤二、得到多缺口椭圆完美涡旋的螺旋相位因子Ev,Ev的表达式为:Ev=exp[i·angle(Ev1+Ev2)],其中,angle(.)表示对复数求相位的函数;将螺旋相位因子Ev与椭圆锥透镜复透过率函数ta相结合,得到光电场表达式taEv;步骤三、根据计算全息技术,使光电场表达式taEv与平面波Ep干涉后,求模取平方,得到干涉光强图,该干涉光强图即为多缺口椭圆完美涡旋光束掩模板掩模板t。使用本发明所设计的掩模板能够产生任意缺口的椭圆完美涡旋光束。
搜索关键词: 一种 缺口 椭圆 完美 涡旋 光束 模板 设计 方法
【主权项】:
一种多缺口椭圆完美涡旋光束掩模板的设计方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一、将两个椭圆坐标系下拓扑荷不同的整数阶的螺旋相位因子Ev1、Ev2相结合,得到Ev1+Ev2,对Ev1+Ev2求相位,得到angle(Ev1+Ev2);步骤二、得到多缺口椭圆完美涡旋的螺旋相位因子Ev,Ev的表达式为:Ev=exp[i·angle(Ev1+Ev2)]其中,angle(.)表示对复数求相位的函数;将螺旋相位因子Ev与椭圆锥透镜复透过率函数ta相结合,得到光电场表达式taEv;步骤三、根据计算全息技术,使光电场表达式taEv与平面波Ep干涉后,求模取平方,得到干涉光强图,该干涉光强图即为多缺口椭圆完美涡旋光束掩模板掩模板t。
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