[发明专利]鞋楦3D曲面展平到2D平面的方法及处理系统

摘要

本申请公开了一种鞋楦3D曲面展平到2D平面的方法及处理系统。该方法包括：确定鞋楦模型；在所述鞋楦模型上预设特征线，其中，所述特征线用于划分所述鞋楦模型；接收区域划分指令，其中，所述区域划分指令用于将所述鞋楦模型划分为多个区域；以及确定每个区域对应的二维平面。本申请解决了鞋楦3D曲面展平到2D平面处理过程中不准确的技术问题。在本申请中各区域内的变形相对独立，每个区域的变形符合鞋曲面展平的特征，同时曲面模型经过展平后无须调整可直接用于工业生产。 1

主权项

1.一种鞋楦3D曲面展平到2D平面的方法，其特征在于，用于鞋楦模型上的3D曲面展平到2D曲面的处理，所述方法包括：

确定鞋楦模型；

在所述鞋楦模型上预设特征线，其中，所述特征线用于划分所述鞋楦模型；

接收区域划分指令，其中，所述区域划分指令用于将所述鞋楦模型划分为多个区域；以及

确定每个区域对应的二维平面。

2.根据权利要求1所述的鞋楦3D曲面展平到2D平面的方法，其特征在于，在所述鞋楦模型上预设特征线包括：

在所述鞋楦模型上预设第一特征线，用于作为所述鞋楦模型的中心竖线；

在所述鞋楦模型上预设第二特征线，用于作为所述鞋楦模型的中心横线；

在所述鞋楦模型上预设第三特征线，用于作为所述鞋楦模型的底边凸起线；

在所述鞋楦模型上预设第四特征线，用于作为所述鞋楦模型的腰维线；以及

在所述鞋楦模型上预设第五特征线，用于作为所述鞋楦模型的跖趾维。

3.根据权利要求2所述的鞋楦3D曲面展平到2D平面的方法，其特征在于，在所述鞋楦模型上预设特征线包括：

在所述鞋楦模型上预设第六特征线，用于作为所述鞋楦模型的筒口线；

在所述鞋楦模型上预设第七特征线，用于作为所述鞋楦模型的子口线；

在所述鞋楦模型上预设第八特征线，用于作为所述鞋楦模型的背中线线；以及

在所述鞋楦模型上预设第九特征线，用于作为所述鞋楦模型的后弧线。

4.根据权利要求1所述的鞋楦3D曲面展平到2D平面的方法，其特征在于，接收区域划分指令包括：

通过预设特征线将所述鞋楦模型划分为多个区域；

得到每个所述区域的闭合轮廓线；以及

将所述闭合轮廓线离散成离散点。

5.根据权利要求4所述的鞋楦3D曲面展平到2D平面的方法，其特征在于，确定每个区域对应的二维平面包括：

判断所述区域中的离散点是否满足第一预设角度条件；

如果所述区域中的离散点满足预设角度条件，则将所述离散点展平至二维空间；

判断展平至二维空间的离散点是否满足第二预设角度条件；

如果展平至二维空间的离散点满足第二预设角度条件，则将角度损失均匀到每个离散点。

6.一种鞋楦3D曲面展平到2D平面的处理系统，其特征在于，用于鞋楦模型上的3D曲面展平到2D曲面的处理，所述系统包括：

第一确定模块，用于确定鞋楦模型；

特征线模块，用于在所述鞋楦模型上预设特征线，其中，所述特征线用于划分所述鞋楦模型；

接收模块，用于接收区域划分指令，其中，所述区域划分指令用于将所述鞋楦模型划分为多个区域；

第二确定模块，用于确定每个区域对应的二维平面。

7.根据权利要求6所述的鞋楦3D曲面展平到2D平面的处理系统，其特征在于，所述特征线模块包括：第一特征线模块、第二特征线模块、第三特征线模块、第四特征线模块、第五特征线模块，

所述第一特征线模块，用于在所述鞋楦模型上预设第一特征线，作为所述鞋楦模型的中心竖线；

所述第二特征线模块，用于在所述鞋楦模型上预设第二特征线，作为所述鞋楦模型的中心横线；

所述第三特征线模块，用于在所述鞋楦模型上预设第三特征线，作为所述鞋楦模型的底边凸起线；

所述第四特征线模块，在所述鞋楦模型上预设第四特征线，用于作为所述鞋楦模型的腰维线；

所述第五特征线模块，在所述鞋楦模型上预设第五特征线，用于作为所述鞋楦模型的跖趾维。

8.根据权利要求7所述的鞋楦3D曲面展平到2D平面的处理系统，其特征在于，所述特征线模块还包括：第六特征线模块、第七特征线模块、第八特征线模块、第九特征线模块，

所述第六特征线模块，用于在所述鞋楦模型上预设第六特征线，作为所述鞋楦模型的筒口线；

所述第七特征线模块，用于在所述鞋楦模型上预设第七特征线，用于作为所述鞋楦模型的子口线；

所述第八特征线模块，用于在所述鞋楦模型上预设第八特征线，用于作为所述鞋楦模型的背中线线；以及

所述第九特征线模块，用于在所述鞋楦模型上预设第九特征线，用于作为所述鞋楦模型的后弧线。

9.根据权利要求6所述的鞋楦3D曲面展平到2D平面的处理系统，其特征在于，所述接收模块包括：

区域划分模块，用于通过预设特征线将所述鞋楦模型划分为多个区域；

获取模块，用于得到每个所述区域的闭合轮廓线；以及

离散模块，用于将所述闭合轮廓线离散成离散点。

10.根据权利要求9所述的鞋楦3D曲面展平到2D平面的处理系统，其特征在于，所述第二确定模块包括：

第一判断模块，用于判断所述区域中的离散点是否满足第一预设角度条件；如果所述区域中的离散点满足预设角度条件，则将所述离散点展平至二维空间；

第二判断模块，用于判断展平至二维空间的离散点是否满足第二预设角度条件；如果展平至二维空间的离散点满足第二预设角度条件，则将角度损失均匀到每个离散点。