[发明专利]一种基于杂散光抑制角的挡光环设置方法有效

专利信息
申请号: 201711436174.2 申请日: 2017-12-26
公开(公告)号: CN108073014B 公开(公告)日: 2019-11-15
发明(设计)人: 李朝辉;赵建科;徐亮;刘峰;李晓辉;于敏;张玺斌;伍建军 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G03B11/04 分类号: G03B11/04
代理公司: 61211 西安智邦专利商标代理有限公司 代理人: 陈广民<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 710119陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于光学系统杂散光抑制设计领域,涉及到一种基于杂散光抑制角的挡光环设置方法。该设置方法主要依据遮光罩内壁喷涂的消光漆属性,以及整个光学系统的最小杂散光抑制角,通过合理的设计布置,达到在抑制角处点源透过率PST值最小的目的。本发明先确定遮光罩内壁喷消光黑漆类型,然后对该类型的消光黑漆表面属性进行测试,根据测试结果获得不同入射角度条件下消光黑漆的吸收属性,选取消光黑漆吸收率最高条件下的入射角度α,作为挡光环的倾斜参考角度,在一级挡光环的环尖坐标点A确定之后,将挡光环倾斜角度β设置为90°‑(α+θ),即可获得该抑制角下最优的PST数值。
搜索关键词: 挡光环 杂散光抑制 黑漆 消光 入射角 遮光罩 吸收率 整个光学系统 点源透过率 表面属性 光学系统 内壁喷涂 坐标点 角处 内壁 测试 参考 吸收
【主权项】:
1.一种基于杂散光抑制角的挡光环设置方法,其特征在于,包括以下步骤:/n1)确定相机遮光罩使用消光黑漆的类型,加工一块与遮光罩同样结构材料的样片,对该样片喷涂所述消光黑漆,然后对样片进行BRDF属性测试,入射准直光线天顶角范围为0~90°,按照0.5°~10°的测试步长进行测试;/n2)得到各个不同入射角度条件下的BRDF数据之后,使用公式(1)计算不同入射角度条件下的积分总散射率TIS,/n /n其中,θs为光线入射角,为方位角;/n3)根据不同的入射角θs,以及其对应的TIS,使用多项式拟合,得到TIS=f(θs),观察曲线形状,对该多项式在最小值区间关于θs求导,得到TIS极小值处的角度值θs',该角度即为吸收率最高条件下的入射角度α;/n4)按照遮光罩挡光环设计原则,通过几何追迹法,得到各个挡光环的环尖位置坐标,最后的一级挡光环环尖坐标点为A,将一级挡光环以外的所有挡光环均设置为与遮光罩底部垂直,即挡光环倾斜角均为90°;所述一级挡光环邻近光学系统透镜设置;/n5)将一级挡光环倾斜角β按照公式(2)进行设置,/nβ=90°-(α+θ) (2)/n其中,θ为抑制角;/n6)以0.1°为步长,在±1°范围内,对一级挡光环分别设置不同的倾斜角度,即β=90°-(α+θ)±Δα,其中对每一个角度下的遮光罩进行三维建模,使用光线追迹软件进行抑制角θ条件下的PST仿真,得到最小PST时的β',该β'即为一级挡光环的最终倾斜角。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院西安光学精密机械研究所,未经中国科学院西安光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711436174.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top