[发明专利]一种应力熔覆层在审
申请号: | 201711422812.5 | 申请日: | 2017-12-25 |
公开(公告)号: | CN109957798A | 公开(公告)日: | 2019-07-02 |
发明(设计)人: | 张晓波 | 申请(专利权)人: | 天津万世达激光技术有限公司 |
主分类号: | C23C24/10 | 分类号: | C23C24/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 301725 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了激光熔覆技术领域的一种应力熔覆层,包括对熔覆层本体,所述对熔覆层本体的顶部开有凹槽,所述对熔覆层本体的内部设有中空内腔,所述中空内腔的内腔左侧壁上下设有两组预紧装置,两组所述预紧装置的右端顶部和底部均对称设有导向块,该种应力熔覆层,结构简单,设置合理,通过设有的凹槽和预紧装置,可以不同的应力吸收带加入到对熔覆层内腔,而且可以得到固定,而且通过设有的抗氧化层和抗腐蚀层可以防止对熔覆层氧化,而且增强了对熔覆层的耐腐蚀性。 | ||
搜索关键词: | 熔覆层 预紧装置 中空内腔 两组 内腔 激光熔覆技术 抗腐蚀层 抗氧化层 耐腐蚀性 应力吸收 导向块 左侧壁 对称 | ||
【主权项】:
1.一种应力熔覆层,包括对熔覆层本体(1),其特征在于:所述对熔覆层本体(1)的顶部开有凹槽(2),所述对熔覆层本体(1)的内部设有中空内腔(3),所述中空内腔(3)的内腔左侧壁上下设有两组预紧装置(4),两组所述预紧装置(4)的右端顶部和底部均对称设有导向块(5)。
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