[发明专利]一种用于磁共振成像的局部匀场系统及匀场方法有效

专利信息
申请号: 201711420310.9 申请日: 2017-12-25
公开(公告)号: CN108387857B 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 李烨;陈巧燕;李柔;罗超;文剑洪;邹超;刘新 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: G01R33/567 分类号: G01R33/567
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 潘登
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种用于磁共振成像的局部匀场系统及匀场方法。具体地,本发明提供了一种用于磁共振成像的匀场方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:采用二维梯度回波采集B0场图信息;计算并评估B0的均匀度;优化每通道匀场线圈的电流;判定是否获得Δf的最小标准偏差值;输出最优电流组合值,并在电流控制软件上设置每通道匀场线圈对应的最优电流值;以及测试并评估B0的均匀度,实现匀场目标。本发明还提供了用于磁共振成像的匀场系统。这种设计用较少通道数的匀场线圈实现较好的匀场效果,系统较为简单,成本相对低;并且提供的匀场方法较为简便,耗时相对较短;同时该系统适用于磁共振温度成像,提高了测温的精度。
搜索关键词: 一种 用于 磁共振 成像 局部 系统 方法
【主权项】:
1.一种用于磁共振成像的匀场方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:采用二维梯度回波采集B0场图信息;计算并评估B0的均匀度;优化每通道匀场线圈的电流;判定是否获得Δf的最小标准偏差值;输出最优电流组合值,并在电流控制软件上设置每通道匀场线圈对应的最优电流值;以及测试并评估B0的均匀度,实现匀场目标。
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