[发明专利]一种快速退火的镀膜方法在审
申请号: | 201711329122.5 | 申请日: | 2017-12-13 |
公开(公告)号: | CN109913811A | 公开(公告)日: | 2019-06-21 |
发明(设计)人: | 黄乐;孙桂红;祝海生;陈立;凌云;黄夏;黄国兴 | 申请(专利权)人: | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/58;C23C14/34 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 安曼 |
地址: | 411100 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种快速退火的镀膜方法,其中,所述镀膜方法用于DLC膜系,包括真空溅镀和快速退火,逐层真空溅镀后进行快速退火,快速退火为快速闪灯退火,将已镀好膜的膜系结构置于环境温度不超过100℃的密封腔室中,使膜层经过惰性气体灯的照射,进行烧结处理。本发明采用本发明采用100℃以下的低温进行退火,快速的退火方式使得经真空溅镀的膜系结构可以快速烧结成型,同时多层镀膜后一次退火烧结还节约了制备工艺,同时保证了DLC膜系的良好特性,如稳定性及摩擦特性等。 | ||
搜索关键词: | 快速退火 真空溅镀 镀膜 退火 膜系结构 惰性气体灯 多层镀膜 快速烧结 密封腔室 摩擦特性 烧结处理 退火方式 一次退火 制备工艺 烧结 膜层 闪灯 成型 照射 节约 保证 | ||
【主权项】:
1.一种快速退火的镀膜方法,其特征在于,所述镀膜方法用于DLC膜系,包括真空溅镀和快速退火,逐层真空溅镀后进行快速退火,快速退火为快速闪灯退火,将已镀好膜的膜系结构置于环境温度不超过100℃的密封腔室中,使膜层经过惰性气体灯的照射,进行烧结处理。
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