[发明专利]光刻装置有效
| 申请号： | 201711315833.7 | 申请日： | 2017-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN108227400B | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 金度亨;金成洙 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 弋桂芬 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻装置。该光刻装置包括：掩模版，具有彼此相反的第一表面和第二表面以及形成在第一表面上的图案区域；掩模版台，面对掩模版的第二表面，掩模版台用于夹住掩模版；在容纳掩模版和掩模版台的腔室内的保护导体；以及电源，用于供给电压到保护导体。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：掩模版，具有彼此相反的第一表面和第二表面以及形成在所述第一表面上的图案区域；掩模版台，面对所述掩模版的所述第二表面，所述掩模版台用于夹住所述掩模版；以及电源，用于提供负电压到所述掩模版的所述第一表面以便防止颗粒吸附在所述掩模版上。
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