[发明专利]一种持久抗菌陶瓷抛光液在审
申请号: | 201711307775.3 | 申请日: | 2017-12-11 |
公开(公告)号: | CN108084886A | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
发明(设计)人: | 谢义鹏;许钧强;康伦国;姚东生 | 申请(专利权)人: | 合众(佛山)化工有限公司;韶关市合众化工有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 深圳瑞天谨诚知识产权代理有限公司 44340 | 代理人: | 李秀娟 |
地址: | 528000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种持久抗菌陶瓷抛光液,其组成为:持久抗菌型改性纳米SiO2分散液40.0~50.0%、水性有机硅玻璃树脂1.0~5.0%、透感增强剂1.0~5.0%、润滑剂0.2%~1.0%、表面活性剂0.2~0.5%、硅溶胶0~30.0%、其余为水。本发明首次将含季铵盐抗菌基团接枝到纳米二氧化硅粒子表面应用到陶瓷抛光工艺上,抛光后季铵盐抗菌离子暴露于瓷砖表面的硅薄膜最外层并起到抗菌作用;而含季铵盐的抗菌基团是通过化学键的方式牢固接枝在聚合物分子链上,不易脱落,因而具有持久抗菌性。 | ||
搜索关键词: | 抗菌陶瓷 季铵盐 抛光液 接枝 纳米二氧化硅粒子 季铵盐抗菌基团 聚合物分子链 化学键 表面活性剂 持久抗菌性 水性有机硅 表面应用 玻璃树脂 瓷砖表面 抗菌基团 抗菌离子 抗菌作用 抛光工艺 分散液 硅薄膜 硅溶胶 润滑剂 增强剂 最外层 抛光 改性 抗菌 陶瓷 暴露 | ||
【主权项】:
1.一种持久抗菌陶瓷抛光液,其特征在于:所述的持久抗菌陶瓷抛光液,按重量百分比计,其组成为:持久抗菌型改性纳米SiO2 分散液40.0~50.0%、水性有机硅玻璃树脂1.0~5.0%、透感增强剂1.0~5.0%、润滑剂0.2%~1.0%、表面活性剂0.2~0.5%、硅溶胶0~30.0%、其余为水;其中,所述的持久抗菌型改性纳米SiO2 分散液,由以下步骤制备:a)、活性纳米SiO2 的制备:在反应釜中,依次加入100.0份纳米SiO2分散液、2.0~8.0份含有乙烯基官能团的硅氧烷偶联剂、0.1~1.0份氨水(15~30%W/W)、2.0~8.0份正硅酸甲酯,搅拌并升温至40~70℃反应6~12h,得所述的活性纳米SiO2 溶液;b)、持久抗菌型改性纳米SiO2 的制备:取所述的活性纳米SiO2 溶液100.0份加入到反应釜中,在搅拌下加入4.0~12.0份季铵盐型乙烯基单体、0.1~0.5份链转移剂、0.1~0.5份促进剂、0~50.0份水,升温至30~50℃,加入0.3~0.8份引发剂,控制在30~50℃反应3~5h,得所述的持久抗菌型改性纳米SiO2 分散液。
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