[发明专利]有机硅类表面活性剂、以及包含其的有机硅溶解洗涤剂在审
申请号: | 201711284493.6 | 申请日: | 2017-12-07 |
公开(公告)号: | CN108435101A | 公开(公告)日: | 2018-08-24 |
发明(设计)人: | 坂西裕一;刘丁丁 | 申请(专利权)人: | 株式会社大赛璐 |
主分类号: | B01F17/54 | 分类号: | B01F17/54;C11D1/12;C11D1/62;C11D3/24;C11D3/04;C11D3/60 |
代理公司: | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人: | 张平元 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明提供将有机硅化合物分解、使其在有机溶剂中增溶的作用优异的新型化合物,以及含有该化合物、能够将附着/残留于模具及使用模具得到的成型品的有机硅化合物完全且迅速地除去的洗涤剂。所述新型化合物如下述式(1)所示。另外,所述有机硅溶解洗涤剂至少含有下述成分(A)、(B)。成分(A):下述式(1)所示的有机硅类表面活性剂(式中,A表示选自磺酸根离子、羧酸根离子及季铵阳离子中的离子性基团。B表示所述A的抗衡离子,为碱金属离子或卤化物离子);成分(B):有机溶剂。 |
||
搜索关键词: | 式( 1 ) 有机硅类表面活性剂 有机硅化合物 溶解洗涤剂 新型化合物 有机溶剂 有机硅 模具 磺酸根离子 季铵阳离子 碱金属离子 离子性基团 卤化物离子 羧酸根离子 抗衡离子 洗涤剂 成型品 附着 式中 增溶 残留 分解 | ||
【主权项】:
1.下述式(1)所示的化合物,
式(1)中,R1表示碳原子数1~12的1价脂肪族烃基,R2表示碳原子数1~12的2价脂肪族烃基,n表示0~10的整数,L表示单键或连结基团,A表示选自磺酸根离子、羧酸根离子及季铵阳离子中的离子性基团,B表示所述A的抗衡离子,为碱金属离子或卤化物离子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社大赛璐,未经株式会社大赛璐许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711284493.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。