[发明专利]一种均匀低应力值锥形药型罩的制备方法

摘要

本发明提供了一种均匀低应力值锥形药型罩的制备方法，包括多道次挤压成形、振动时效处理、深冷处理步骤，所述多道次挤压成形是在三向压应力和变形速率为5～10mm/s的作用下，经过4～8道次的挤压变形，每道次的变形量在5～50%。本发明制备的药型罩尺寸精度高、几何对称性好、应力值低，在精密切削加工和使用过程中尺寸稳定性好，能显著提升破甲战斗部药型罩的侵彻能力和稳定性。

主权项

1.一种均匀低应力值锥形药型罩的制备方法，包括以下步骤：（1）坯料的制备：准备铜棒材；（2）均匀化热处理：将步骤（1）所得坯料在真空热处理炉中380～550℃条件下保温退火 1～3h，再随炉冷却至100℃以下出炉，真空度≥3×10‑3Pa；（3）多道次挤压成形：将步骤（2）在三向压应力和变形速率为5～10mm/s的作用下，经过 4～8道次的挤压变形，每道次的变形量在5～50%之间，在成形过程中坯料表面和模具型腔内表面涂布润滑剂；多道次挤压成形后锥形药型罩圆周壁厚差≤0.1mm；（4）振动时效处理：将步骤（3）所得的药型罩构件进行振动时效处理1～3次，处理时间 20～60分钟；（5）再结晶热处理：将步骤（4）获得的锥形药型罩放入真空热处理炉中，在150～350℃ 条件下保温45～75min；（6）精整形：将步骤（5）所得的构件放入挤压模具模腔内，在三向压应力和变形速率为5 ～10mm/s的作用下，经过1～4道次的精整形，每道次的变形量≤2%；锥形药型罩圆周壁厚差 ≤0.1mm、表面粗糙度达到Ra0.2μm；（7）深冷处理：将步骤（6）所得的构件放入深冷处理装置中，深冷介质为液氮，冷却温 度‑135～‑145℃，冷却次数2～4次，每次15～45分钟。