[发明专利]三维结构打印方法以及系统在审
| 申请号： | 201711276310.6 | 申请日： | 2017-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN109878076A | 公开（公告）日： | 2019-06-14 |
| 发明（设计）人： | 张瑾;朱鹏飞;朱鸣;浦东林;陈林森 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学 |
| 主分类号： | B29C64/135 | 分类号： | B29C64/135;B29C64/386;B29C64/273;B33Y30/00;B33Y50/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张昱;刘林华 |
| 地址： | 215123 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及三维结构打印方法以及系统。所述三维结构打印方法包括步骤：获取打印对象的3D数据；根据所获取的3D数据来提供打印对象的位相结构灰度图形分布；基于所提供的位相结构灰度图形分布，使用光学位相调制器件对入射光进行位相调制，以形成打印对象的三维结构光场分布并通过其与打印材料作用，从而打印出打印对象的三维结构。本发明能够同时兼顾到打印精度、打印尺寸、打印效率及光能利用率等诸多方面。 | ||
| 搜索关键词： | 打印 打印对象 三维结构 灰度图形 位相调制 位相结构 光能利用率 三维结构光 打印材料 场分布 入射光 | ||
【主权项】：
1.一种三维结构打印方法，其特征在于，所述三维结构打印方法包括步骤：A. 获取打印对象的3D数据；B. 根据所获取的3D数据来提供打印对象的位相结构灰度图形分布；以及C. 基于所提供的位相结构灰度图形分布，使用光学位相调制器件对入射光进行位相调制，以形成打印对象的三维结构光场分布并通过其与打印材料作用，从而打印出打印对象的三维结构。
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