[发明专利]一种日光温室甜瓜浇水的方法在审
申请号: | 201711262970.9 | 申请日: | 2017-12-04 |
公开(公告)号: | CN107711219A | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
发明(设计)人: | 李群;韩燕红;唐明涛;徐洪海;温水秀;尹建华 | 申请(专利权)人: | 青岛绿色硅谷科技有限公司 |
主分类号: | A01G9/24 | 分类号: | A01G9/24;A01C23/04;G01N33/24 |
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地址: | 266000 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种日光温室甜瓜浇水的方法,制作“凹”形栽培垄,由2条凸出带和1条凹陷带组成,凸出带宽20cm、高20cm;凹陷带宽30cm、深10cm,相邻2条栽培垄间距110cm;甜瓜定植在“凹”形栽培垄两侧的凸出带上;日光温室内安装滴灌设备用于甜瓜浇水,滴灌带安装于凹陷带中间;在栽培垄上设置1组土壤水分传感器,实现自动控制灌溉。本发明可使土壤耕作层始终保持甜瓜生长发育所需要的适宜含水量,浇水施肥后,肥水主要分布在耕作层中,且分布均匀,肥水利用率高,能够减少肥料使用量。本发明比现有的肥水一体化技术节水15%以上,氮肥利用率提高8.4%,肥料减施12.9%以上。 | ||
搜索关键词: | 一种 日光温室 甜瓜 浇水 方法 | ||
【主权项】:
一种日光温室甜瓜浇水的方法,其特征在于:制作“凹”形栽培垄,由2条凸出带和1条凹陷带组成,凸出带宽20cm、高20cm;凹陷带宽30cm、深10cm,相邻2条栽培垄间距110cm;甜瓜定植在“凹”形栽培垄两侧的凸出带上,株距38cm;日光温室内安装滴灌设备用于甜瓜浇水,滴灌带安装于凹陷带中间;任选一条“凹”形栽培垄,在凹陷带距滴灌带10cm处,插入1只土壤水分传感器A,土壤水分传感器A探头距凹陷带凹面土壤表面5cm;在任一条凸出带的正中间,再埋入另1只土壤水分传感器B,土壤水分传感器B探头距凸出带凸面土壤表面5cm;滴灌设备自动开启或关闭由控制器控制,土壤水分传感器A和土壤水分传感器B均与控制器连接,所述控制器用于判断所述土壤水分传感器A或土壤水分传感器B发送来的土壤水分含量是否达到预设的阈值,当土壤水分传感器A检测到土壤水分含量不大于57.5%时,滴灌设备开启开始浇水,当土壤水分传感器B检测到土壤水分含量不小于80%时,滴灌设备关闭停止浇水。
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