[发明专利]光刻装置及其主基板结构与主基板单元在审
| 申请号： | 201711246264.5 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109856921A | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 李佳;杨志斌;刘伟;龚辉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻装置及其主基板结构与主基板单元，所述主基板结构包括主基板，所述主基板由铝合金制成，所述主基板内设有调温通道，所述调温通道内流通有用于调节温度的调温流体。本发明提供的光刻装置及其主基板结构与主基板单元，通过以铝合金材料的主基板代替现有材料的基板，可以利用铝材料的导热系数较高的特点使得热量可以快速在基板内传递，避免了温度的变化带来的形变。同时，本发明还通过调温通道以及所述调温通道内流通有用于调节温度的调温流体，进一步以主动调节的方式调节了基板的温度。 | ||
| 搜索关键词： | 主基板 调温通道 主基板单元 光刻装置 基板 调温流体 铝合金材料 导热系数 主动调节 铝材料 铝合金 形变 流通 传递 | ||
【主权项】：
1.一种主基板结构，其特征在于，包括主基板，所述主基板由铝合金制成，所述主基板内设有调温通道，所述调温通道内流通有用于调节温度的调温流体。
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