[发明专利]刻蚀腔体部件的检测方法有效
| 申请号： | 201711239742.X | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN108106975B | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 胡伟玲;聂钰节 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01N15/02 | 分类号： | G01N15/02 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 郭四华 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种刻蚀腔体部件的检测方法，用于对在刻蚀工艺中会和刻蚀腔体内的等离子体直接接触的部件进行检测，包括如下步骤：步骤一、采用第一工艺气体进行第一次等离子体刻蚀作业对部件进行表面刻蚀冲洗处理，去除部件的表面的附着物和氧化物以及部件表面材质；步骤二、采用第二工艺气体进行第二次等离子体刻蚀作业对部件的表面进行刻蚀和氧化处理，对部件表面进行粗糙化和剥离；采用Ar气体对部件表面进行物理性轰击处理；步骤三、步骤一至二重复一次以上直至激发部件的表面材质；之后进行颗粒度检测。本发明能一次性检测出刻蚀腔体的部件是否正常，从而能预防刻蚀腔体的异常部件给晶圆产品带来缺陷源，从而能提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 部件 检测 方法 | ||
【主权项】：
1.一种刻蚀腔体部件的检测方法，其特征在于，用于对在刻蚀工艺中会和刻蚀腔体内的等离子体直接接触的部件进行检测，包括如下步骤：步骤一、采用第一工艺气体进行第一次等离子体刻蚀作业实现对所述刻蚀腔体的部件进行表面刻蚀冲洗处理，所述表面刻蚀冲洗处理去除所述部件的表面的附着物和氧化物以及所述部件表面部分的本体材质；步骤二、采用第二工艺气体进行第二次等离子体刻蚀作业实现对所述部件的表面进行刻蚀和氧化处理并用于对所述部件表面进行粗糙化和剥离；之后，采用Ar气体对所述部件表面进行物理性轰击处理；步骤三、步骤一至二重复一次以上直至激发所述部件的表面材质，当所述部件存在缺陷源时，激发表面材质后的所述部件的缺陷源会显现；之后对所述刻蚀腔体进行颗粒度检测，当检测到的颗粒度正常时，则表明所述部件正常；当检测到的颗粒度异常时，则表明所述部件存在缺陷源。
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