[发明专利]一种中草药祛痘修复组合化妆品及其制备方法

摘要

本发明公开了一种中草药祛痘修复组合化妆品，包括祛痘精华露，由以下重量份的原料制成：半夏20‑30份，三叶青20‑25份，甘草15‑20份，杏仁15‑20份，黄苓15‑20份，珍珠10‑15份，红花5‑10份，三七5‑10份，化妆品基质(Ⅰ)100‑140份；祛痘脐霜由以下重量份的原料制成：黄柏10‑20份，半夏10‑15份，甘草10‑15份，凤尾草10‑15份，白蔹5‑10份，三七5‑10份，红花5‑10份，玫瑰精油0.001‑0.002份，薰衣草精油0.01‑0.02份，化妆品基质(Ⅱ)80‑100份；该祛痘组合化妆品还包括祛痘精华素和修复面膜。本发明还公开了该组合化妆品的制备方法。本发明产品以控脂、祛痘、退印、护养为一体，在皮肤表面形成生物保护膜，对外起到隔离细菌，防止痘疮发生，对内保护微创面起到控脂，改善毛孔环境，减轻炎症反应，恢复皮肤屏障功能。

主权项

1.一种中草药祛痘修复组合化妆品，包括配套使用的祛痘精华露和祛痘脐霜；所述祛痘精华露由以下重量份的原料制成：半夏20‑30份，三叶青20‑25份，甘草15‑20份，杏仁15‑20份，黄苓15‑20份，珍珠10‑15份，红花5‑10份，三七5‑10份，化妆品基质(Ⅰ)100‑140份；所述祛痘脐霜由以下重量份的原料制成：黄柏10‑20份，半夏10‑15份，甘草10‑15份，凤尾草10‑15份，白蔹5‑10份，三七5‑10份，红花5‑10份，玫瑰精油0.001‑0.002份，薰衣草精油0.01‑0.02份，化妆品基质(Ⅱ)80‑100份；所述化妆品基质(Ⅰ)由以下质量百分比的原料组成：卡波姆：0.2％，聚乙二醇：0.2％，透明质酸钠0.01％，尿囊素0.2％，山梨醇5％，甘油5％，羟乙基尿素：3％，三乙醇胺：0.2％，苯氧乙醇0.15％，余量为纯化水；化妆品基质(Ⅱ)由以下质量百分比的原料组成：硬脂醇聚醚‑20：1％，硬脂醇聚醚‑21：1.5％，单甘酯：0.5％，混醇：3％，二甲基硅油：1％，异构十六烷烃：4％，角鲨烷：6％，水：74.6％，卡波姆：0.1％，纤维素：0.1％，甘油：8％，三乙醇胺：0.1％，苯氧乙醇：0.1％。