[发明专利]一种单粒子翻转评估方法及装置在审
| 申请号： | 201711221596.8 | 申请日： | 2017-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN107832556A | 公开（公告）日： | 2018-03-23 |
| 发明（设计）人： | 郭红霞;张阳;张凤祁;郭维新;钟向丽;琚安安;秦丽 | 申请（专利权）人： | 湘潭大学 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人： | 宋静娜,郝传鑫 |
| 地址： | 411100 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种单粒子翻转评估方法及装置，涉及半导体器件抗辐射加固领域。用于解决现有技术中无法对单粒子翻转效应进行模拟和分析的问题。所述方法包括建立静态随机存储器的几何模型；所述几何模型包括两层，其中敏感区域为第二层，位于第一层的下方；根据入射粒子的预设参数，通过蒙特卡洛方法对所述几何模型的敏感区域进行辐照，得到沉积能量；其中，所述入射粒子的预设参数包括所述入射粒子的个数和所述入射粒子的能量；若所述沉积能量达到预设临界能量，则确定所述入射粒子引起一次单粒子翻转。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 粒子 翻转 评估 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种单粒子翻转评估方法，其特征在于，所述方法包括：建立静态随机存储器的几何模型；所述几何模型包括两层，其中敏感区域为第二层，位于第一层的下方；根据入射粒子的预设参数，通过蒙特卡洛方法对所述几何模型的敏感区域进行辐照，得到沉积能量；其中，所述入射粒子的预设参数包括所述入射粒子的个数和所述入射粒子的能量；若所述沉积能量达到预设临界能量，则确定所述入射粒子引起一次单粒子翻转。
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