[发明专利]一种3.5微米极窄线宽激光输出方法在审

专利信息
申请号: 201711181134.8 申请日: 2017-11-23
公开(公告)号: CN107809052A 公开(公告)日: 2018-03-16
发明(设计)人: 李林军;段小明;杨玉强;杨曦凝;白云峰;谢文强;周龙 申请(专利权)人: 黑龙江工程学院
主分类号: H01S3/102 分类号: H01S3/102;H01S3/094
代理公司: 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙)11427 代理人: 陈娟
地址: 150050 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明涉及一种3.5微米极窄线宽激光输出方法,第一泵浦激光器(9)、第二泵浦激光器(10)发射的1.9μm泵浦光入射至隔离装置,经隔离装置透射的泵浦光入射至单掺TmYVO4晶体(2),经所述单掺TmYVO4晶体(2)吸收后产生3.5μm激光,所述3.5μm激光经第二全反镜(3)全反射的2μm激光入射至石墨烯布拉格光栅(4),经石墨烯布拉格光栅(4)的光束线宽得到第一压缩光;所述第一压缩光入射至石英色散棱镜(5)进行第二次线宽压缩;经压缩的光束从输出耦合镜(6)输出;计算机系统(12)自动调整泵浦激光器、光栅、棱镜的参数,直到所述输出光的性能与所述预先存储的模拟信息相吻合,从而获得皮米线宽的激光输出。
搜索关键词: 一种 3.5 微米 极窄线宽 激光 输出 方法
【主权项】:
一种3.5微米极窄线宽激光输出方法,其特征在于,第一泵浦激光器(9)发射的1.9μm泵浦光入射至第一隔离装置(7),经第一隔离装置(7)透射的泵浦光入射至第一全反镜(1),所述第一全反镜(1)为临界角为0°的3.5μm全反镜,经第一全反镜(1)透射的泵浦光入射至单掺Tm:YVO4晶体(2),所述单掺Tm:YVO4晶体(2)沿光入射的方向的长度为60mm,且单掺Tm:YVO4晶体(2)中Tm3+掺杂浓度为1.6at.%,经单掺Tm:YVO4晶体(2)吸收后产生3.5μm激光,所述3.5μm激光入射至第二全反镜(3),所述第二全反镜(3)为临界角为45°的3.5μm全反镜;第二泵浦激光器(10)发射的1.9μm泵浦光入射至第二隔离装置(8),经第二隔离装置(8)透射的泵浦光入射至第二全反镜(3),经第二全反镜(3)透射的泵浦光入射至所述单掺Tm:YVO4晶体(2),经所述单掺Tm:YVO4晶体(2)吸收后产生3.5μm激光,所述3.5μm激光入射至第一全反镜(1),经第一全反镜(1)全反射的3.5μm激光入射至单掺Tm:YVO4晶体(2),经单掺Tm:YVO4晶体(2)透射的3.5μm激光入射至第二全反镜(3);经第二全反镜(3)全反射的2μm激光入射至石墨烯布拉格光栅(4),经石墨烯布拉格光栅(4)的光束线宽得到第一压缩光;所述第一压缩光入射至石英色散棱镜(5)进行第二次线宽压缩;经压缩的光束从输出耦合镜(6)输出;所述输出光输入示波器(11),所述示波器(11)将检测结果实时反馈到计算机系统(12),所述计算机系统(12)接收到示波器(11)反馈信号后,与所述计算机系统(12)预先存储的模拟信息进行比较,并根据比较结果自动调整第一泵浦激光器(9)、第二泵浦激光器(10)、石墨烯布拉格光栅(4)、石英色散棱镜(5)的参数,直到所述输出光的性能与所述预先存储的模拟信息相吻合,从而获得皮米线宽的激光输出。
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