[发明专利]一种基于荧光强度的通道上/下壁面轮廓的测量方法

摘要

本发明公开了一种基于荧光强度的通道上/下壁面轮廓的测量方法，属于微流控技术领域，该方法利用激光激发液体中的荧光试剂，通过测得的荧光强度来反应通道壁面之间的间距，再进一步转化成通道壁面轮廓。配制溶液；拍摄荧光强度；构建壁面轮廓；本方法得到的是微通道上下两壁面之间的间距，若要得到微通道壁面的整体轮廓，必须要上下两壁面中的至少一个壁面为平整壁面；本方法只适用于微通道上/下壁面中有一个壁面为平整壁面，另一个壁面为不平整壁面的情况，不适用于两个壁面都为不平整的情况。

主权项

一种基于荧光强度的通道上/下壁面轮廓的测量方法，其特征在于：该方法利用激光激发液体中的荧光试剂，通过测得的荧光强度来反应通道壁面之间的间距，再进一步转化成通道壁面轮廓；具体操作流程如下：S1、配制溶液；取5ml罗丹明试剂放置于烧杯中，逐渐加入200ml去离子水，再搅拌均匀；S2、拍摄荧光强度；将罗丹明试剂通入到要测量的微通道中，罗丹明试剂的填满微通道，并将溢出的罗丹明试剂进行擦拭；由于罗丹明试剂被Micro‑piv系统波长为532纳米的激光激发，用Micro‑piv系统拍摄微通道测量处的罗丹明试剂浓度，提取相应荧光强度；由于很多微流控芯片的制作材质是多孔性质的PDMS即聚二甲基硅氧烷，罗丹明试剂在与微通道接触一段时间后会被微通道吸收，并将微通道内部染色，为避免对后续拍摄结果造成干扰，罗丹明试剂通入后要即刻用Micro‑piv系统进行拍摄，减少微通道与罗丹明试剂接触时间；S3、构建壁面轮廓将S2中提取的荧光强度中最弱的地方标定为0，此处即微通道壁面间距最小；将荧光强度最强的地方标定为1，此处即微通道壁面间距最大；由于罗丹明试剂在溶液中是均匀分布的，所以微通道深度与罗丹明试剂的浓度成正比；而罗丹明试剂的浓度又与荧光强度成线性关系，即微通道上下壁面间距与荧光强度成正比；已知标定后的荧光强度最大最小值以及对应的通道深度，通过荧光强度的分布图换算出通道深度的分布图。