[发明专利]一种铜离子插层类水滑石可见光催化剂及其应用

摘要

本发明属于光催化有机合成领域，更具体地，涉及一种铜离子插层类水滑石催化剂及其在可见光催化合成1,3‑丁二炔类化合物中的应用。该催化剂组成为其中A²⁺和B³⁺分别是组成层板的二价和三价金属离子，Cu‑L为层间的Cu⁺或Cu²⁺配合物阴离子，在可见光照射下，实现了室温、无碱、高效、催化剂可重复使用的光催化末端炔烃氧化偶联合成1,3‑丁二炔类化合物。本发明催化剂制备简单、价廉易得，反应条件温和，在室温、常压氧气氛、醇类溶剂、可见光或太阳光照射下，反应可快速高效地进行，底物适用范围广，丁二炔产率高，催化剂可多次循环使用，易于实现工业化应用。

主权项

1.一种铜离子插层类水滑石可见光催化剂的应用，其特征在于，用作可见光催化末端炔烃合成1,3‑丁二炔类化合物；所述末端炔烃为芳香类炔烃或脂肪类炔烃；所述铜离子插层类水滑石可见光催化剂，其化学组成通式包括[A²⁺_1‑xB³⁺_x(OH)₂]^x+(Cu‑L)^n‑_x/n,其中：A²⁺为二价金属离子，其为Mg²⁺,Cu²⁺和Zn²⁺中的一种或两种；B³⁺为三价金属离子，其为Al³⁺；(Cu‑L)^n‑为Cu⁺和Cu²⁺的配合物阴离子，L为乙二胺四乙酸、柠檬酸、酒石酸、氨基酸、卟啉类或席夫碱类阴离子配体中的一种；x＝0.2～0.5，n为Cu‑L配合物阴离子的电荷数，n＝2～4。