[发明专利]光OFDM系统中一种联合改进的LC‑SLM峰均比抑制方案在审
申请号: | 201711099466.1 | 申请日: | 2017-11-09 |
公开(公告)号: | CN107707503A | 公开(公告)日: | 2018-02-16 |
发明(设计)人: | 袁建国;张锡若;刘书涵;汪政权;辛雪琪;袁素真 | 申请(专利权)人: | 重庆邮电大学 |
主分类号: | H04L27/26 | 分类号: | H04L27/26 |
代理公司: | 北京同恒源知识产权代理有限公司11275 | 代理人: | 赵荣之 |
地址: | 400065*** | 国省代码: | 重庆;85 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种光OFDM系统的峰均比抑制方案,特别涉及一种联合改进的LC‑SLM峰均比抑制方案。该方案主要通过基于选择性映射技术和Clipping技术联合改进来实现对高峰均比的抑制。在低复杂度方案中,光OFDM信号的实部和虚部被分开处理生成更多的备选信号,再结合Clipping技术把信号限定在门限值范围内,最后再选择峰均比最小的一路信号从而得到最优的峰均比抑制性能。仿真分析表明,本发明可有效降低传统SLM方案的计算复杂度,同时还兼具较优的峰均比抑制性能。同时本发明也是一种兼顾系统误码率和峰均比抑制性能的方案,该方案可满足对光OFDM系统高峰均比的抑制,进而说明本发明的有效性和创新性。 | ||
搜索关键词: | ofdm 系统 一种 联合 改进 lc slm 抑制 方案 | ||
【主权项】:
本发明涉及一种光正交频分复用(Orthogonal Frequency Division Multiplexing,OFDM)系统的峰均比抑制方案,特别涉及一种联合改进的SLM(low‑complexity SLM,LC‑SLM)峰均比抑制方案。该方案主要通过基于选择性映射(Selective Mapping,SLM)技术和Clipping技术联合改进来实现对高峰均比的抑制。在低复杂度方案中,光OFDM信号的实部和虚部被分开处理生成更多的备选信号,再结合Clipping技术把信号限定在门限值范围内,最后再选择峰均比最小的一路信号从而得到最优的峰均比抑制性能。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆邮电大学,未经重庆邮电大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711099466.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种智能化移动终端
- 下一篇:图像形成系统、图像读取装置及图像形成装置