[发明专利]一种电子束加工铜-石墨烯复合纳米图形的方法在审
| 申请号： | 201711095930.X | 申请日： | 2017-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN109765760A | 公开（公告）日： | 2019-05-17 |
| 发明（设计）人： | 张志平;陶守林;董海健;李辉;金胜利;郭斌 | 申请（专利权）人： | 杭州欧克液压科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/40;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 311200 浙江省杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电子束加工铜‑石墨烯复合纳米图形的方法，先在提供的衬底上旋涂一层环烷酸铜薄膜；利用电子束曝光技术对样品进行曝光经显影后得到预设的环烷酸铜纳米图形；然后对样品进行退火处理得到铜‑石墨烯复合材料的纳米图形，本发明解决了传统微纳加工无法制造具有极小特征尺寸复合材料纳米结构图形的不足，同时由于不需要进行金属的沉积降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 电子束加工 复合纳米 环烷酸铜 纳米图形 石墨烯 电子束曝光技术 石墨烯复合材料 复合材料纳米 结构图形 退火处理 微纳加工 小特征 衬底 上旋 显影 预设 沉积 薄膜 生产成本 金属 曝光 制造 | ||
【主权项】：
1.一种电子束加工铜‑石墨烯复合纳米图形的方法，其特征在于：包括以下步骤：(1)提供衬底，并进行超声清洗和干燥，选择硅、氧化硅、氮化硅、金刚石、蓝宝石，ITO中的一种为衬底，然后先用丙酮超声清洗1～10分钟；再用异丙醇超声清洗1～10分钟，最后用氮气吹干样品；(2)利用旋涂的方法在衬底上旋涂一层环烷酸铜薄膜；(3)利用电子束曝光设备Raith 150‑Two对步骤(2)的样品进行曝光，曝光剂量范围：2500μC cm‑2到10000μC cm‑2；(4)对已经曝光的样品在甲苯溶液中进行显影60秒，然后用去离子水冲洗30秒，最后用氮气吹干样品，干燥时间为1～5分钟，从而得到环烷酸铜纳米图形；(5)将样品置于高温管式炉中，并通入纯氢气，在900℃的高温下退火处理10分钟，之后进行自然冷却，从而得到铜‑石墨烯复合材料的纳米图形。
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