[发明专利]提高光学元件在纳秒三倍频激光辐照下损伤阈值的方法

摘要

本发明提供了一种提高光学元件在纳秒三倍频激光辐照下损伤阈值的方法，属于激光材料技术领域。本发明提供的方法通过降低光学元件至某一最佳温度，使得在该温度下光学元件的损伤阈值最大，同时结合氢氟酸化学刻蚀技术，最终实现了光学元件损伤阈值的有效提升。该方法有效提高了光学元件在纳秒三倍频激光辐照下光学元件损伤阈值，对于解决如何提高光学元件的抗激光损伤能力这一难题有着重要意义。

主权项

提高光学元件在纳秒三倍频激光辐照下损伤阈值的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：对实验样品进行预处理制备实验样品；步骤2：将步骤一中制备好的实验样品放入真空腔中的样品架；真空腔连接真空泵和低温控制系统；步骤3：Nd：YAG激光器发射主激光，主激光经分光镜后分为透射和反射两束光；反射光由能量卡计接收，用于实时测量激光能量值；透射光经聚焦透镜聚焦后辐照于实验样品后表面上；He‑Ne激光器产生探测光，探测光通过斩波器和真空腔的窗口玻璃后与主激光的透射光在实验样品的后表面重合于一点，探测光产生的反射光通过窗口玻璃被能量探头接收，通过锁相放大器、斩波器和能量探头的信号实现激光辐照损伤的实时监测；步骤4：由小到大调节主激光的能量值，以单脉冲的方式辐照于实验样品的同一点上，观察锁相放大器的读数，以读数的突然降低作为实验样品发生损伤的判定依据，并记录每次的主激光能量值。