[发明专利]一种无掩膜光学光刻系统在审

专利信息
申请号: 201711014026.1 申请日: 2017-10-26
公开(公告)号: CN107577117A 公开(公告)日: 2018-01-12
发明(设计)人: 杨彪;周金运;雷亮 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 罗满
地址: 510006 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明实施例公开了一种无掩膜光学光刻系统,包括照明光学子系统、空间光调制子系统及投影光学子系统;照明光学子系统用于出射能量分布均匀、与空间光调制子系统的光轴平行的光束;空间光调制子系统包括数字光纤合束器和与其相连的控制器;数字光纤合束器为由多束直径为微米级别的外包光纤,按照预设排列方式排列且呈对称分布在两侧的光纤合束、多个阵列分布的连接小室及位于连接小室狭缝内的像元开关构成;投影光学子系统包括投影透镜组和基板,用于将掩膜图形先分割后按Z字形路线进行拼接,并成像在基板。本申请使用数字光纤合束器作为动态掩膜产生器件,可实现实时、高效率和低成本的图形转移,提高了图形成像质量,增强了曝光量。
搜索关键词: 一种 无掩膜 光学 光刻 系统
【主权项】:
一种无掩膜光学光刻系统,其特征在于,包括:照明光学子系统、空间光调制子系统及投影光学子系统;所述照明光学子系统用于出射能量分布均匀、与所述空间光调制子系统的光轴平行的光束;所述空间光调制子系统包括数字光纤合束器和与控制器,所述数字光纤合束器与所述控制器相连,所述数字光纤合束器出射的光束投射至所述投影光学子系统;用于通过所述控制器控制所述数字光纤合束器动态地获得掩膜图形;其中,所述数字光纤合束器为由多束直径为微米级别的外包光纤,按照预设排列方式排列且呈对称分布在两侧的光纤合束、多个阵列分布的连接小室及位于连接小室狭缝内的像元开关构成;所述控制器用于通过控制所述像元开关的遮光散光板,以实现控制所述照明光学子系统出射的光束经过一侧的光纤合束是否传输至另一侧的光纤合束;所述投影光学子系统包括投影透镜组和基板;所述投影透镜组用于将所述掩膜图形先分割后按Z字形路线进行拼接,并将拼接后的掩膜图形缩小、成像在所述基板上。
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