[发明专利]一种春大棚小型西瓜混合基质无土栽培方法

摘要

本发明涉及一种春大棚小型西瓜混合基质无土栽培方法。本发明通过构建栽培槽、选择适当的栽培基质、水肥灌溉自动化等措施，实现规模化、标准化的生产，且产品质量稳定，利于西瓜产业绿色安全高效化的发展。采用本发明方法的西瓜示范点于端午节前上市，较常规生产提前一周，亩节水30％，平均果形指数1.26，中心糖含量12.5％、边糖含量10.4％，平均单瓜重为2.57kg，头茬瓜亩产量5500kg以上，示范效果明显。

主权项

1.一种春大棚小型西瓜混合基质无土栽培方法，其特征在于，包括：(一)栽培槽与栽培基质处理1.栽培槽的构建；采用简易栽培土槽形式，该栽培槽规格设置是上口宽度为45‑50cm，下口宽度为30‑35cm，深度为30‑35cm；栽培时，槽内先铺设一层塑料薄膜隔离土壤，薄膜上层铺设一层加厚防虫网，栽培基质置于防虫网上；2.基质选择；基质配方为草炭:珍珠岩:蛭石＝7:3:4(w/w)；将所述基质与鸡粪按10:1的重量比混匀后作为栽培基质，消毒后填于栽培槽中；3.水肥系统；在每个栽培槽内铺上滴灌带，应用精量施肥系统进行施肥；4.肥料的选择；应用西瓜专用配方A肥、B肥；A肥中硝酸钾：四水硝酸钙＝7:4(w/w)；B肥中磷酸二氢铵：7水硫酸镁＝1:1(w/w)；(二)栽培管理1.品种选择选择生长势强、抗早衰、商品性好、耐低温弱光和综合抗逆能力强的硬肉类型小型西瓜品种；2.茬口安排；接穗及砧木分别于2月初播种，3月中旬定植，4月中下旬授粉，5月下开始采收；3.育苗；4.定植前准备；在定植前一个月扣好大棚，保温；2月下旬将所述栽培基质填入栽培槽内，每个栽培槽内平行铺上滴灌带；定植前10天将栽培基质浇透；5.合理密植；在3月中上旬，棚内地温达15℃以上时，瓜苗3叶1心时定植；采用“一主一侧”整枝方式即头茬瓜只主蔓结瓜，侧蔓供养，一棵秧留一个瓜；双行定植，株距25‑30cm，每667m2定植株数为1700‑2100株；选晴天上午定植，把苗从营养钵取出，移入当天打好的定值穴中，穴内事先放好西瓜专用缓释农药“一株一片”；定植后，滴灌浇水，搭建小拱棚保温；6.田间管理6.1CO2施肥在西瓜定植缓苗后增施CO2气肥，每667m2均匀吊挂约2kg，有效期约30d，一个生长季共施用2次；6.2温湿度管理6.2.1温度管理缓苗期：以保温为主，保持日温25‑30℃，夜温10℃以上，当中午温度高于30℃时可揭拱棚膜适当放风，夜温高于10℃以上时可去掉小拱棚；此时保持“双幕”封闭直至缓苗结束；伸蔓期：日温保持28‑30℃，夜温保持在12℃以上，主要依靠调控大棚两个侧风口和“双幕”风口控温；通当夜温稳定在15℃以上时，撤去“双幕”；坐果期：日温保持在28‑35℃之间，夜温保持在15‑20℃，以保证植株正常开花结果，当夜间气温在20℃以上时可不关风口；6.2.2湿度管理控制田间持水量在60％‑80％；其中，苗期为65％，伸蔓期70％，果实膨大期75％；控制空气相对湿度为50％‑60％；6.3水肥管理(1)pH和EC值控制EC值：整个生育期栽培基质EC值均控制在1.5‑2.5ms/cm之间；苗期EC值控制在1.5‑1.8ms/cm之间；伸蔓期EC值控制在1.8‑2.0ms/cm之间；坐果期EC值控制在2.0‑2.5ms/cm之间；pH值：整个生育期栽培基质pH值均控制在5.5‑6.0之间；苗期pH值控制在5.5‑5.8；伸蔓期pH值控制在5.8‑6.0之间；坐果期pH值控制在5.8‑6.0之间；(2)不同生育期营养液灌溉策略营养液采取日本园式配方和斯泰耐配方；采收前一周，减少灌溉量；6.4植株调整；6.5保花保果；6.6二茬瓜连茬坐果；6.7病虫害防治；6.8及时采收。