[发明专利]降低钽电容器被膜工序ESR的工艺方法在审

专利信息
申请号: 201710883722.X 申请日: 2017-09-26
公开(公告)号: CN107705991A 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 蔡大俊;邓俊涛;钟山;周柱琴;张承 申请(专利权)人: 中国振华(集团)新云电子元器件有限责任公司
主分类号: H01G9/00 分类号: H01G9/00
代理公司: 贵阳派腾阳光知识产权代理事务所(普通合伙)52110 代理人: 田江飞
地址: 550018 贵*** 国省代码: 贵州;52
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摘要: 发明属于电容器制造技术领域,尤其是降低钽电容器被膜工序ESR的工艺方法,通过浸渍、脱水、分解、补形成、再浸渍、再脱水、再分解和后续处理等步骤完成对钽芯子的处理,通过对工艺参数的调控,促进分解过程的进行,有效的改善了钽电容器的有效串联电阻;并且再分解过程中,通过控制含氧量,有效的防止了溶液飞溅造成钽丝脏的现象。
搜索关键词: 降低 钽电容 器被膜 工序 esr 工艺 方法
【主权项】:
降低钽电容器被膜工序ESR的工艺方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)浸渍:将钽芯子浸渍在硝酸锰溶液A中,浸渍时间为8~12min,浸渍温度为(55±5)℃;(2)脱水:在温度为(125±20℃)的烘箱内脱水;(3)分解:在温度为270±20℃,含氧量为(7±3)%的被膜炉内进行分解;(4)补形成:在2U额的条件下处理5~10min:(5)再浸渍:在硝酸锰溶液B中,浸渍时间为8~12min,浸渍温度为(55±5)℃;(6)再脱水:在温度为(125±20℃)的烘箱内脱水;(7)再分解:在温度为(85±20)℃,氧含量为(12±3)%的被膜炉内进行分解;(8)后续处理:将步骤(7)所得钽芯子进行石墨银浆处理即可。
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