[发明专利]真空面源辐射板及具有其的面源黑体辐射源装置在审
申请号: | 201710874128.4 | 申请日: | 2017-09-25 |
公开(公告)号: | CN109556725A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 宋春晖;杨旺林;魏建强;曹清政;王志 | 申请(专利权)人: | 北京振兴计量测试研究所 |
主分类号: | G01J5/00 | 分类号: | G01J5/00;G01J5/52;G01J5/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100074 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种真空面源辐射板及具有其的面源黑体辐射源装置,该真空面源辐射板的有效辐射口径大于1000mm×1000mm,真空面源辐射板包括:基体,基体包括多个微锥,多个微锥间隔设置在基体上,基体的材质包括紫铜;涂层,涂层设置在基体上,涂层用于提高基体的发射率。应用本发明的技术方案,以解决现有技术中黑体辐射源设备无法在满足真空低温条件下以及具有大辐射面积的前提下保持高的发射率的技术问题。 | ||
搜索关键词: | 源辐射 真空面 面源黑体辐射源 发射率 微锥 真空低温条件 黑体辐射源 紫铜 间隔设置 有效辐射 口径 辐射 应用 | ||
【主权项】:
1.一种真空面源辐射板,其特征在于,所述真空面源辐射板的有效辐射口径大于1000mm×1000mm,所述真空面源辐射板包括:基体(10),所述基体(10)包括多个微锥(11),多个所述微锥(11)间隔设置在所述基体(10)上,所述基体(10)的材质包括紫铜;涂层,所述涂层设置在所述基体(10)上,所述涂层用于提高所述基体(10)的发射率。
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