[发明专利]真空面源辐射板及具有其的面源黑体辐射源装置在审

专利信息
申请号: 201710874128.4 申请日: 2017-09-25
公开(公告)号: CN109556725A 公开(公告)日: 2019-04-02
发明(设计)人: 宋春晖;杨旺林;魏建强;曹清政;王志 申请(专利权)人: 北京振兴计量测试研究所
主分类号: G01J5/00 分类号: G01J5/00;G01J5/52;G01J5/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100074 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种真空面源辐射板及具有其的面源黑体辐射源装置,该真空面源辐射板的有效辐射口径大于1000mm×1000mm,真空面源辐射板包括:基体,基体包括多个微锥,多个微锥间隔设置在基体上,基体的材质包括紫铜;涂层,涂层设置在基体上,涂层用于提高基体的发射率。应用本发明的技术方案,以解决现有技术中黑体辐射源设备无法在满足真空低温条件下以及具有大辐射面积的前提下保持高的发射率的技术问题。
搜索关键词: 源辐射 真空面 面源黑体辐射源 发射率 微锥 真空低温条件 黑体辐射源 紫铜 间隔设置 有效辐射 口径 辐射 应用
【主权项】:
1.一种真空面源辐射板,其特征在于,所述真空面源辐射板的有效辐射口径大于1000mm×1000mm,所述真空面源辐射板包括:基体(10),所述基体(10)包括多个微锥(11),多个所述微锥(11)间隔设置在所述基体(10)上,所述基体(10)的材质包括紫铜;涂层,所述涂层设置在所述基体(10)上,所述涂层用于提高所述基体(10)的发射率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京振兴计量测试研究所,未经北京振兴计量测试研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710874128.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top