[发明专利]高密度的结构光投影仪在审

专利信息
申请号: 201710848343.7 申请日: 2017-09-19
公开(公告)号: CN107589623A 公开(公告)日: 2018-01-16
发明(设计)人: 许星 申请(专利权)人: 深圳奥比中光科技有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G02B27/09
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司44223 代理人: 江耀纯
地址: 518000 广东省深圳市南山区粤*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种高密度的结构光投影仪,包括由在半导体衬底上排列的至少两个子光源组成的VCSEL阵列光源;透镜,用于接收及汇聚由所述VCSEL阵列光源中所述子光源发射出的光束;斑点图案生成器,接收由所述透镜汇聚的所述子光源发射出的光束后产生与所述子光源对应的结构光子光束,由至少两个所述结构光子光束组合成所述结构光光束。通过采用VCSEL阵列光源,并利用斑点图案生成器实现对各个子光源的同步扩束,从而在不增加光源强度的基础上获得高密度、大视场的结构光图案投影,避免产生较强的零级衍光斑。
搜索关键词: 高密度 结构 投影仪
【主权项】:
一种结构光投影仪,用于发射结构光光束,其特征在于,包括:由在半导体衬底上排列的至少两个子光源组成的VCSEL阵列光源;透镜,用于接收及汇聚由所述VCSEL阵列光源中所述子光源发射出的光束;斑点图案生成器,接收由所述透镜汇聚的所述子光源发射出的光束后产生与所述子光源对应的结构光子光束,由至少两个所述结构光子光束组合成所述结构光光束。
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