[发明专利]双抗单面离型材料在审

专利信息
申请号: 201710829221.3 申请日: 2017-09-14
公开(公告)号: CN108690522A 公开(公告)日: 2018-10-23
发明(设计)人: 夏厚君;杨晓明 申请(专利权)人: 浙江欧仁新材料有限公司
主分类号: C09J7/40 分类号: C09J7/40;C09D4/06;C09D7/63;C08F220/18;C08F220/28;C08F220/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 314103 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开一种双抗单面离型材料,包括基膜层、涂覆于基膜层上表面的离型剂层和涂覆于基膜层下表面的抗静电涂层,所述离型剂层由离型剂固化获得,此离型剂由以下重量份的组分获得:此离型剂由以下重量份的组分获得:预聚树脂、甲基氢醌、3‑环氧丙烷、十二烷基缩水甘油醚、1‑羟基环己基苯甲酮,所述预聚树脂由以下步骤获得:将初级混合物、二甲苯、过氧化苯甲酰混合后加入到反应釜中获得聚合物溶液;将聚合物溶液、2‑羟乙基乙烯基醚高速搅拌后加热蒸馏去除二甲苯,从而获得预聚树脂。本发明实现了在低温下也能保持稳定的低剥离力,且也实现低能量的UV光照射下快速光固化。
搜索关键词: 基膜层 离型剂 树脂 预聚 聚合物溶液 离型材料 离型剂层 二甲苯 重量份 双抗 涂覆 十二烷基缩水甘油醚 羟基环己基苯甲酮 过氧化苯甲酰 初级混合物 抗静电涂层 低剥离力 高速搅拌 环氧丙烷 加热蒸馏 甲基氢醌 乙烯基醚 低能量 反应釜 光固化 上表面 下表面 羟乙基 去除 固化 照射
【主权项】:
1.一种双抗单面离型材料,其特征在于:包括基膜层(1)、依次涂覆于基膜层(1)上表面第二抗静电涂层(4)和离型剂层(2)和涂覆于基膜层(1)下表面的第一抗静电涂层(3),所述离型剂层(2)的厚度为0.1~0.7μm,所述离型剂层(2)由离型剂固化获得,此离型剂由以下重量份的组分获得:预聚树脂                                100份,甲基氢醌                                0.8~1.2份,3‑环氧丙烷                              25~40份,十二烷基缩水甘油醚                      10~20份,1‑羟基环己基苯甲酮                      3~5份;所述预聚树脂由以下步骤获得:步骤一、将甲基丙烯酸环己酯30~50份、β‑羧乙基丙烯酸酯20~30份、丙烯酸8~12份,投入搅拌桶,低速搅拌均匀形成初级混合物;步骤二、将步骤一的初级混合物、100份二甲苯、0.3~0.5份的过氧化苯甲酰混合后加入到反应釜中,中速搅拌反应半小时后静置1~2小时后获得聚合物溶液;步骤三、将步骤二的聚合物溶液、5~12份2‑羟乙基乙烯基醚高速搅拌后加热蒸馏去除二甲苯,从而获得预聚树脂。
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