[发明专利]一种能够抑制涡流效应的充电介质、充电装置及制造方法在审
| 申请号： | 201710777038.3 | 申请日： | 2017-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN107508383A | 公开（公告）日： | 2017-12-22 |
| 发明（设计）人： | 李青峰;王伟明;马伯志;薛林;李路明 | 申请（专利权）人： | 清华大学;北京品驰医疗设备有限公司 |
| 主分类号： | H02J50/00 | 分类号： | H02J50/00;H02J50/10;H02J7/00;H05K1/16;H05K3/02 |
| 代理公司： | 北京市振邦律师事务所11389 | 代理人： | 李朝辉 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种能够抑制涡流效应的充电介质、充电装置及制造方法，该无线充电介质包括至少一个金属板，其特征在于，在金属板上沿厚度方向蚀刻有分形图案，所述分形图案线条从金属板的边界的某一点引入，蚀刻后的金属板保持等电位连接，分形图案的蚀刻部分面积占所述金属板面积2/3以上。具有上述介质的无线充电装置可以抑制涡流效应，减少涡流损耗，提高传输效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 能够 抑制 涡流 效应 充电 介质 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种能够抑制涡流效应的无线充电介质，包括至少一个金属板，其特征在于，在金属板上沿厚度方向蚀刻有分形图案，所述分形图案线条从金属板的边界的某一点引入，蚀刻后的金属板保持等电位连接，分形图案的蚀刻部分面积占所述金属板面积2/3以上。
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