[发明专利]基于抗磁约束的无界面接触溶液单晶自由生长方法有效

专利信息
申请号: 201710776715.X 申请日: 2017-09-01
公开(公告)号: CN107574480B 公开(公告)日: 2020-04-03
发明(设计)人: 尹大川;吴子庆;刘永明;陈婧婕;刘雅丽 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: C30B30/04 分类号: C30B30/04;C30B7/00
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 顾潮琪
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供了一种基于抗磁约束的无界面接触溶液单晶自由生长方法,混合顺磁介质溶液和样品分子,得到过饱和结晶溶液体系;将结晶溶液体系置于磁悬浮装置中进行晶体生长;观察晶体的生长状况,若得到无界面接触悬浮生长的单晶体,则终止实验;若所得晶体在液面上则降低顺磁介质浓度,若所得晶体在溶液底部,则增加顺磁介质浓度;若没有晶体长出则增加结晶溶液各组分浓度,若晶体为多晶,则降低结晶溶液各组分浓度。本发明实现了均相成核,得到了优质单晶体,且价格低廉,准备简单,使用范围广。
搜索关键词: 基于 约束 界面 接触 溶液 自由 生长 方法
【主权项】:
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