[发明专利]一种存储介质厚度的测量方法和装置有效
| 申请号： | 201710774186.X | 申请日： | 2017-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN107588736B | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 邓常敏;芈健;周毅;张硕;陈子琪 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张小娜;王宝筠<国际申请>=<国际公布> |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市东湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请实施例公开了一种存储介质厚度的测量方法，该方法包括：获取实际测量光谱，所述实际测量光谱为待测量存储介质经实际光源照射后采集到的光谱；根据所述实际测量光谱，从预先建立的样本光谱库中找到第一目标样本光谱，其中，所述样本光谱库包括不同样本存储介质对应的样本光谱，所述第一目标样本光谱与所述实际测量光谱之间的回归拟合优度最高；根据所述第一目标样本光谱对应的样本存储介质的厚度值，确定所述待测量存储介质的厚度值。可见，本申请可以免去了在获取到实际测量光谱后，还需要针对该待测量存储介质进行建模、赋值以及回归拟合计算，从而缩短了存储介质厚度的测量时间，进而也减短了存储介质的出厂周期。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 存储 介质 厚度 测量方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种存储介质厚度的测量方法，其特征在于，所述方法包括：/n获取实际测量光谱，所述实际测量光谱为待测量存储介质经实际光源照射后采集到的光谱；/n根据所述实际测量光谱，从预先建立的样本光谱库中找到第一目标样本光谱，其中，所述样本光谱库包括不同样本存储介质对应的样本光谱，所述第一目标样本光谱与所述实际测量光谱之间的回归拟合优度最高；/n根据所述第一目标样本光谱对应的样本存储介质的厚度值，确定所述待测量存储介质的厚度值；/n所述根据所述第一目标样本光谱对应的样本存储介质的厚度值，确定所述待测量存储介质的厚度值，包括：/n根据所述实际测量光谱，从预先建立的样本光谱库中找到第二目标样本光谱，所述第二目标样本光谱与所述实际测量光谱之间的回归拟合优度仅次于所述第一目标样本光谱与所述实际测量光谱之间的回归拟合优度；/n根据所述第一目标样本光谱对应的样本存储介质的厚度值和所述第二目标样本光谱对应的样本存储介质的厚度值，确定所述待测量存储介质的厚度值；/n所述样本光谱库包括至少一类存储介质对应的一组样本光谱簇，其中，每类存储介质包括的样本存储介质之间的材料特性相同，每类存储介质之间的材料特性不同；/n所述根据所述实际测量光谱，从预先建立的样本光谱库中存储的样本光谱中找到第一目标样本光谱之前，还包括：/n确定所述待测量存储介质的材料特性；/n则，所述根据所述实际测量光谱，从预先建立的样本光谱库中存储的样本光谱中找到第一目标样本光谱，包括：/n从所述样本光谱库中查询与所述待测量存储介质的材料特性相同的样本存储介质；/n从所述样本存储介质对应的样本光谱簇中找到所述第一目标样本光谱。/n
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