[发明专利]一种基于一维光子晶体结构色膜转移印花的方法有效
| 申请号： | 201710756117.6 | 申请日： | 2017-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN107460749B | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | 马威;李爽;张淑芬 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | D06P5/26 | 分类号： | D06P5/26;D06P5/24;D06P1/00 |
| 代理公司： | 21212 大连东方专利代理有限责任公司 | 代理人： | 李娜;李馨<国际申请>=<国际公布>=< |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明属于材料领域，具体涉及一种基于一维光子晶体结构色膜转移印花的方法。本发明所述一维光子晶体结构色膜转移印花的方法，在经过亲水处理的疏水性基底上组装聚合物/无机物或无机物/无机物纳米多孔一维光子晶体，然后依次铺展图案化模板、转移介质光固化树脂或者热固性弹性体、纺织纤维，最后固化成膜而剥离，从而实现一维光子晶体的转移印花，该方法能够将具有高亮度、高饱和、不褪色的结构色膜转移印花至不同种类的纤维上，转移简便，操作简单，条件容易控制，扩大了光子晶体结构色的实际应用。 | ||
| 搜索关键词： | 转移印花 一维光子晶体结构 无机物 一维光子晶体 色膜 光子晶体结构色 热固性弹性体 光固化树脂 图案化模板 无机物纳米 材料领域 纺织纤维 固化成膜 结构色膜 亲水处理 疏水性基 转移介质 聚合物 高饱和 铺展 褪色 组装 剥离 纤维 应用 | ||
【主权项】：
1.一种基于一维光子晶体结构色膜转移印花的方法，其特征在于：包括以下步骤：/n(1)将疏水性硬质平面基底进行等离子体亲水处理；/n(2)在处理所得的基底上交替组装低折射率有机聚合物纳米粒子或低折射率无机纳米粒子和高折射率无机纳米粒子，获得低折射率有机纳米粒子或低折射率无机纳米粒子和高折射率无机纳米粒子交替堆叠的周期性层状结构材料，所得层状结构材料为一维光子晶体结构生色材料；/n(3)在层状结构材料上铺展图案化模板；/n(4)在图案化模板上铺展转移介质，所述转移介质为光固化树脂和光引发剂的混合液，或热固性弹性体和固化剂的混合液；/n(5)在转移介质上铺展待转移印花纺织纤维；/n(6)进行光固化或热固化处理；/n(7)将基底剥离。/n
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