[发明专利]一种共轴输出的多波长激光装置在审
申请号: | 201710755029.4 | 申请日: | 2017-08-29 |
公开(公告)号: | CN107565380A | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | 沈兆国;郝培育;赵建辉 | 申请(专利权)人: | 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所 |
主分类号: | H01S5/06 | 分类号: | H01S5/06 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心61204 | 代理人: | 王鲜凯 |
地址: | 471099 *** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本发明涉及一种共轴输出的多波长激光装置,采用板条激光技术、光参量放大技术获得高重频、光束质量好、结构紧凑、性能稳定的多波长激光输出,能够保证在整个泵浦功率范围内系统都能工作在稳定区,在很大程度上提高激光的输出能量及稳定性。本发明利用正交泵浦技术、波长锁定以及板条技术,实现高能量、高重频激光输出。通过正交泵浦技术,利用加压调Q技术和预偏置技术,得到高能量共轴多波长激光输出。本发明激光器以其输出波段多、光斑均匀、输出能量高等优点可作为激光医疗、激光雷达、光电对抗等领域理想的激光源,具有结构紧凑、高转换效率、高光束质量等突出优点,应用前景十分光明。 | ||
搜索关键词: | 一种 输出 波长 激光 装置 | ||
【主权项】:
一种共轴输出的多波长激光装置,其特征在于包括全反镜凹陷角锥(1)、第一板条介质(3)、第一泵浦阵列(2)、石英旋转器(4)、折转凹陷角锥(5)、1064nm四分之一波片(6)、第二板条介质(8)、第二泵浦阵列(7)、1064nm偏振片(9)、布氏角LN调Q晶体(10)、532nm全反镜(11)、倍频晶体(12)、532nm输出镜(13)、532nm折转镜(14)、RTP调Q晶体(15)、1064nm折转镜(16)、3800nm全反镜(17)、差频晶体(18)、3800nm输出镜(19)、3800nm折转镜(20)、1470nm半导体激光器(21)、1470nm校正镜(22)、1470nm四分之一波片(23)、1470nm第一偏振片(24)、1470nm第二偏振片(25)、1470nm非球面镜(26)、1470nm折转镜(27)、2100nm半导体激光器(28)、2100nm校正镜(29)和2100nm折转镜(30);自全反镜凹陷角锥(1)沿光路依次第一板条介质(3),石英旋转器(4),折转凹陷角锥(5),1064nm四分之一波片(6),第二板条介质(8),1064nm偏振片(9);其中第一泵浦阵列2为第一板条介质(3)的能源激励,第二泵浦阵列(7)为第二板条介质(8)的能源激励;1064nm偏振片(9)后分为两路:透射的光路依次为:布氏角LN调Q晶体(10),532nm全反镜(11),倍频晶体(12),532nm输出镜(13),532nm折转镜(14)后反射光路依次经过,3800nm折转镜(20),1470nm折转镜(27)至2100nm折转镜(30),然后与2100nm半导体激光器(28)经过2100nm校正镜(29)的光束相加后输出;所述532nm全反镜(11)对532nm激光全反,对1064nm激光透;所述532nm输出镜(13)对532nm透,1064nm全反;所述532nm折转镜(14)对532nm激光45°全反;所述2100nm校正镜(29)对2100nm激光透,2100nm折转镜(30)对2100nm激光45°全反;反射的光路后经过RTP调Q晶体(15),与1470nm半导体激光器(21)经过1470nm校正镜(22),1470nm四分之一波片(23),1470nm第一偏振片(24)和1064nm折转镜(16)的投射光,经过3800nm全反镜(17),差频晶体(18),3800nm输出镜(19)后与3800nm折转镜(20)共光路;所述1064nm折转镜(16)对1064nm激光45°全反;所述3800nm全反镜(17)对3800nm激光全反,对1470nm激光透;所述3800nm输出镜(19)对1064nm激光透过率为70%,对3800nm激光透;所述3800nm折转镜(20)对3800nm激光45°全反;1470nm第一偏振片(24)的反射光经1470nm第二偏振片(25)折射,通过1470nm非球面镜(26)与1470nm折转镜(27)共光路;所述1470nm折转镜(27)对1470nm激光45°全反。
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