[发明专利]针对透明基底材料的曝光方法与装置在审
| 申请号： | 201710743128.0 | 申请日： | 2017-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN109426087A | 公开（公告）日： | 2019-03-05 |
| 发明（设计）人： | 田毅强;曹昌智 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种针对透明基底材料的曝光方法及装置，该方法包括如下步骤：S1：利用正面曝光机构对所述透明基底材料的正面进行曝光；S2：将所述透明基底材料移动至背面曝光机构的相应位置；S3：利用背面曝光机构对所述透明基底材料的背面进行曝光；且，在尚未显影时实施步骤S2和S3。 | ||
| 搜索关键词： | 透明基底材料 背面曝光 曝光 曝光方法及装置 曝光机构 显影 背面 移动 | ||
【主权项】：
1.一种针对透明基底材料的曝光方法，其特征在于：包括如下步骤：S1：利用正面曝光机构对所述透明基底材料的正面进行曝光；S2：将所述透明基底材料移动至背面曝光机构的相应位置；S3：利用背面曝光机构对所述透明基底材料的背面进行曝光；且，在尚未显影时实施步骤S2和S3。
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