[发明专利]基于并行自适应光学校正的多层共轭像差校正系统和方法有效

专利信息
申请号: 201710723551.4 申请日: 2017-08-22
公开(公告)号: CN107505706B 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 斯科;龚薇;章一叶 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B21/36
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 林超
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于并行自适应光学校正的多层共轭像差校正系统和方法。本发明采用多个空间光调制器,利用四焦距系统依次将空间光调制器光学共轭至散射介质的各个分层,每一个空间光调制器负责校正对应的分层,且每一个空间光调制器依次运用一次并行自适应光学校正算法,散射介质由浅至深被空间光调制器逐步共轭校正,最终我们可以实现较大厚度的散射介质光斑校正。本发明能够实现对深层散射介质的像差校正,使成像深度更深,突破了传统自适应光学成像深度的限制。
搜索关键词: 基于 并行 自适应 光学 校正 多层 共轭 系统 方法
【主权项】:
一种基于并行自适应光学校正的多层共轭像差校正系统,其特征在于包括沿光路方向依次布置的第一透镜L1、第二空间光调制器SLM2、第二透镜L2、第三透镜L3、第一空间光调制器SLM1、第四透镜L4和物镜L5,物镜L5前方设有散射介质,散射介质包括厚度不同的前半层和后半层的两层;入射光依次经第一透镜L1、第二空间光调制器SLM2、第二透镜L2、第三透镜L3、第一空间光调制器SLM1、第四透镜L4和物镜L5后聚焦到散射介质的后端面。
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