[发明专利]一种地下连续墙的溶洞处理结构及处理方法

摘要

本发明涉及溶洞处理技术领域，公开了一种地下连续墙的溶洞处理结构和处理方法。处理方法包括以下步骤导墙施工、探边施工、冲孔位设定和冲孔位施工。处理结构包括设于地表的导墙、位于地表下的岩层以及位于所述岩层下的溶洞；所述导墙包括平行设置的两组导墙单元，所述两组导墙单元之间形成导墙槽，在所述导墙槽内沿所述导墙槽延伸的方向设有多个先导孔，所述先导孔贯穿所述岩层；所述先导孔内套设有钢护筒。本发明的处理结构通过先导孔溶向洞内填充填充物，加固了原充填欠固结的软弱土体；处理方法可以使溶洞处理和地下连续墙成槽同步进行，这样确保地下连续墙顺利成槽及成槽质量，保证地下连续墙施工安全，并且缩短了工期。

主权项

一种地下连续墙的溶洞处理方法，其特征在于包括以下步骤：S1.导墙施工：用挖掘机将溶洞上方的地表挖掘成槽，在所述槽的侧壁和槽口两侧的地表设置钢模并浇筑混凝土，养护后拆除所述钢模形成相对设置的两个导墙单元，所述两个导墙单元之间形成导墙槽；S2.探边施工：在导墙槽两侧，沿所述导墙槽每隔一段距离设置一个探边孔，所述探边孔底部位于所述溶洞底部完整岩层内；S3.冲孔位设定：在所述导墙槽底部所述沿导墙槽延伸方向设置多个冲孔位、相邻两个所述冲孔位部分重叠；S4.冲孔施工：用第一冲孔桩对各冲孔位进行冲孔，冲孔时泥浆比重为1.2－1.5g/cm3，遇到漏浆后用填充料进行回填，回填完毕后重新制造泥浆，用冲孔锤将回填料击实，直至冲孔到设计底高程，最后用方锤修整孔壁。