[发明专利]一种铜箔基底石墨烯转移的改良方法在审

专利信息
申请号: 201710683280.4 申请日: 2017-08-11
公开(公告)号: CN107585762A 公开(公告)日: 2018-01-16
发明(设计)人: 任旭东;王日红;王冕;马服辉;任云鹏;李琳 申请(专利权)人: 江苏大学
主分类号: C01B32/194 分类号: C01B32/194
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 212013 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及到一种铜箔基底石墨烯转移的改良方法,首先将铜箔基底石墨烯用去离子水清洗干净,并在真空中干燥;将配置好的PMMA溶液均匀旋涂在石墨烯/铜箔上,形成PMMA/石墨烯/铜箔复合层;然后将其置于加热炉中加热,再冷却到室温,以便形成支撑物;再用稀盐酸刻蚀,消除铜基底。本发明为了提高转移石墨烯的质量,采用了RCA清洗法处理目标基底硅片,再将PMMA/石墨烯复合层置于硅片上,接着对硅片基底进行加热处理。然后用丙酮溶液浸泡复合层以去除PMMA,最后成功得到硅基底石墨烯。本发明减少了转移后石墨烯的皱褶、裂缝等缺陷,最大程度去除了目标基底上的金属颗粒物,增强其亲水性,极大地提高了石墨烯转移质量。
搜索关键词: 一种 铜箔 基底 石墨 转移 改良 方法
【主权项】:
一种铜箔基底石墨烯转移的改良方法,其特征在于,包括以下几个步骤:A.将制备好的铜箔基底石墨烯样品用去离子水清洗干净,并且放在真空中干燥;B.配置聚甲基丙烯酸甲酯溶液,并用旋涂机把聚甲基丙烯酸甲酯溶液均匀旋涂在铜箔基底石墨烯上,形成铜箔基底石墨烯复合层;C.对步骤B中的铜箔基底石墨烯复合层进行热处理,再进行冷却处理,以在铜箔基底石墨烯表面形成支撑物;D.将步骤C中的铜箔基底石墨烯复合层放在稀盐酸中刻蚀,以除去铜箔基底,得到聚甲基丙烯酸甲酯基底石墨烯,并用去离子水清洗干净;E.将步骤D中的聚甲基丙烯酸甲酯基底石墨烯置于硅片上,然后对其硅片进行加热处理,形成聚甲基丙烯酸甲酯基底石墨烯复合层;F.用丙酮浸泡步骤E中的聚甲基丙烯酸甲酯基底石墨烯复合层,除去聚甲基丙烯酸甲酯基底,并用去离子水清洗干净,加热烘干即可得到硅基底的石墨烯。
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