[发明专利]抗蚀剂材料和图案形成方法

摘要

本发明涉及抗蚀剂材料和图案形成方法。本发明提供在正型抗蚀剂材料和负型抗蚀剂材料中都为高灵敏度且LWR、CDU小的抗蚀剂材料以及使用其的图案形成方法。抗蚀剂材料，其包含基础聚合物和产酸剂，该产酸剂包含由下述式(1‑1)表示的锍盐或者由下述式(1‑2)表示的碘鎓盐。

主权项

抗蚀剂材料，其包含基础聚合物和产酸剂，该产酸剂包含由下述式(1‑1)表示的锍盐或由下述式(1‑2)表示的碘鎓盐，式中，R1各自独立地为羟基、直链状、分支状或环状的碳数1～20的烷基或烷氧基、直链状、分支状或环状的碳数2～20的酰基或酰氧基、氟原子、氯原子、溴原子、氨基、或者烷氧基羰基取代的氨基；R2各自独立地为单键、或者碳数1～4的亚烷基；R3在p为1时为单键或碳数1～20的2价的连接基，在p为2或3时为碳数1～20的3价或4价的连接基，该连接基可含有氧原子、硫原子或氮原子；Rf1～Rf4各自独立地为氢原子、氟原子或三氟甲基，但至少1个为氟原子或三氟甲基；另外，Rf1与Rf2可结合而形成羰基；R4、R5、R6、R7和R8各自独立地为直链状、分支状或环状的碳数1～12的烷基、直链状、分支状或环状的碳数2～12的烯基、碳数6～20的芳基、或者碳数7～12的芳烷基或芳氧基烷基，这些基团的氢原子的一部分或全部可被羟基、羧基、卤素原子、氰基、氧代基、酰胺基、硝基、磺内酯基、砜基或含有锍盐的基团取代，在这些基团的碳‑碳键间可介有醚基、酯基、羰基、碳酸酯基或磺酸酯基；另外，R4与R5可相互结合而与它们结合的硫原子一起形成环；m为1～5的整数，n为0～3的整数，p为1～3的整数。