[发明专利]一种基于磁流变胶的超光滑平面抛光装置及抛光方法

摘要

本发明实施例提供了一种基于磁流变胶的超光滑平面抛光装置，涉及超精密加工技术领域，该装置包括支架，支架的顶端设有平台，平台上固定有旋转座，旋转座上设有抛光盘，旋转座连接有抛光盘驱动机构；抛光盘的上方设有工件夹持机构，工件夹持机构包括有夹盘，平台的下方设有磁场发生机构，磁场发生机构包括有转盘，转盘上均匀设置有若干永磁铁；基于磁流变胶的超光滑平面抛光方法包括以下步骤：将工件固定在抛光头的卡盘上；在抛光盘内加入磁流变胶；通过动态磁场控制磁流变胶的形态，形成柔性抛光头，完成对工件的抛光。本发明通过动态磁场控制磁流变胶的形态进行抛光，可简化抛光装置，提高抛光效率，降低成本，非常适用于超光滑平面零件的抛光。

主权项

1.一种基于磁流变胶的超光滑平面抛光装置，其特征在于：包括支架（1），所述支架（1）的顶端设有平台（9），所述平台（9）上固定有旋转座（10），所述旋转座（10）上设有抛光盘（3），所述旋转座（10）连接有抛光盘驱动机构（4）；所述抛光盘（3）的上方设有工件夹持机构（5），所述工件夹持机构（5）包括有夹盘（507），所述夹盘（507）位于所述抛光盘（3）上方；所述平台（9）的下方设有磁场发生机构（6），所述磁场发生机构（6）包括有转盘（7），所述转盘（7）位于所述抛光盘（3）的下方，所述转盘（7）上以所述转盘（7）的中心为起点，沿等速螺线均匀设置有若干永磁铁（8）；所述平台（9）上固定有支撑杆（11），所述工件夹持机构（5）设于所述支撑杆（11）上；所述工件夹持机构（5）包括水平驱动滑台（501），所述水平驱动滑台（501）固定在所述支撑杆（11）的顶端，所述水平驱动滑台（501）上滑动设有水平滑块（502），所述水平滑块（502）上固定有垂直驱动滑台（503），所述垂直驱动滑台（503）上滑动设有垂直滑块（504），所述垂直滑块（504）上固定有电机二（505），所述电机二（505）传动连接有转轴一（506），所述转轴一（506）下端连接所述夹盘（507）；所述磁场发生机构（6）还包括有支座二（601），所述支座二（601）固定于所述平台（9）的下端面，所述支座二（601）的一侧面上设有两个竖直导轨（602），所述两个竖直导轨（602）之间设有滚珠丝杠（603），所述滚珠丝杠（603）上连接有支座三（604），所述支座三（604）上固定有电机三（605），所述电机三（605）上连接有转轴二（606），所述转盘（7）固定在所述转轴二（606）的顶端，所述滚珠丝杠（603）的底端连接有旋转手柄（607）；所述抛光盘驱动机构（4）包括有电机一（401），所述电机一（401）竖直固定在支座一（402）上，所述支座一（402）固定于所述支架（1）的底部；所述支座一（402）的另一侧通过传动轴承（410）竖直设置有一传动轴（405），所述传动轴（405）的底端设有从动轮一（404）；所述电机一（401）的转轴上设有驱动轮（403），所述驱动轮（403）通过传动带一（409）与所述从动轮一（404）连接；所述传动轴（405）的顶端设有从动轮二（406），所述从动轮二（406）通过传动带二（407）连接所述旋转座（10），所述从动轮二（406）和所述抛光盘（3）之间设有张紧轮（408）。