[发明专利]一种基于磁流变效应的集群式大平面抛光装置在审
申请号: | 201710628330.9 | 申请日: | 2017-07-23 |
公开(公告)号: | CN107225441A | 公开(公告)日: | 2017-10-03 |
发明(设计)人: | 张广 | 申请(专利权)人: | 张广 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B31/10;B24B27/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 325213 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种基于磁流变效应的集群式大平面抛光装置,装置包括工件、定位轮、抛光轮、磁流变液、磨粒、永久磁铁、轴承座、球轴承、转轴、电机、高压喷头、泵、刮块、容器。定位轮有两个,其半径比抛光轮大2mm,其轮廓侧表面直接与工件表面接触,定位轮和抛光轮固定在转轴上,转轴两端通过球轴承与轴承座连接,由电机带动旋转;抛光轮根据工件尺寸分配若干,每个抛光轮分配四个永久磁铁,每个永久磁铁磁极异极排列,相连抛光轮磁极同极排列;磁流变液和磨粒组成抛光液,抛光液通过泵将容箱出口b的抛光液经过高压喷头引流到抛光区域,刮块将抛光轮表面的抛光液由入口a回收到容器中,容器成凹形结构,且回收入口a开口较大,出口b开口较小。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 流变 效应 集群 平面 抛光 装置 | ||
【主权项】:
一种基于磁流变效应的集群式大平面抛光装置,该抛光装置是由工件(1)、定位轮(2)、抛光轮(3)、磁流变液(4)、磨粒(5)、永久磁铁(6)、轴承座(7)、球轴承(8)、转轴(9)、电机(10)、高压喷头(13)、泵(14)、刮块(15)、容器(16)组成;其特征在于:所述定位轮(2)有两个,其半径比抛光轮(3)的半径大2mm,并安装在抛光轮(3)两端,其轮廓侧表面直接与工件(1)表面接触,所述定位轮(2)和抛光轮(3)固定在转轴(9)上,所述转轴(9)两端通过球轴承(8)与轴承座(7)连接,并由电机(10)带动旋转;所述抛光轮(3)根据工件(1)尺寸分配若干,每个抛光轮(3)分配四个永久磁铁(6),每个永久磁铁(6)磁极异极排列,所述相连抛光轮(3)磁极同极排列;所述磁流变液(4)和磨粒(5)组成抛光液(12),所述抛光液(12)通过泵(14)将容箱(16)出口b的抛光液(12)经过高压喷头(13)引流到抛光区域,所述刮块(15)将抛光轮(3)表面的抛光液(12)由入口a回收到容器(16)中,所述容器(16)成凹形结构,并且回收入口a开口较大,出口b开口较小;所述磁流变液(4)为铁粉的质量分数为81.83%的水基磁流变液,其铁粉直径在2‑8μm,所述磨粒(5)为形状不规则的Al2O3颗粒。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于张广,未经张广许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710628330.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种金属斜面的抛光方法
- 下一篇:一种数控精密外圆磨床用高精度液压卡盘