[发明专利]溶胶-凝胶法制备高无机组分的有机硅-SiO2杂化涂层的方法在审
申请号: | 201710571805.5 | 申请日: | 2017-07-13 |
公开(公告)号: | CN109423076A | 公开(公告)日: | 2019-03-05 |
发明(设计)人: | 李美栓;齐红;钱余海;徐敬军;左君 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C09D1/00 | 分类号: | C09D1/00;C09D7/65;C08J7/04;C01B33/14;B05D7/24;B05D3/02 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明主要涉及抗原子氧侵蚀以及耐真空紫外辐照防护涂层的制备领域,特别是一种采用溶胶‑凝胶法制备抗空间原子氧侵蚀和耐真空紫外辐照的高无机组份有机硅‑SiO2杂化涂层的方法。采用溶胶‑凝胶法,以正硅酸四乙酯作为SiO2无机组分的前驱体,以有机硅作为有机组分,通过调节和控制关键工艺参数,在空间材料表面制备高无机组分的杂化涂层,在保证材料的柔韧性与透明性的前提下,可有效防护低地轨道空间环境中高能量原子氧以及真空紫外对空间材料的侵蚀和破坏。本发明方法实现有机与无机组分在分子级别的杂化,作为防护涂层在空间材料上应用时,可显著地提高基体材料的抗原子氧和抗真空紫外的侵蚀性能,延长空间材料的服役寿命。 | ||
搜索关键词: | 空间材料 杂化 真空紫外辐照 防护涂层 抗原子氧 有机硅 侵蚀 关键工艺参数 正硅酸四乙酯 原子氧侵蚀 溶胶-凝胶 柔韧性 表面制备 分子级别 服役寿命 轨道空间 基体材料 无机组份 有机硅- 高能量 凝胶法 前驱体 原子氧 凝胶 制备 防护 应用 保证 | ||
【主权项】:
1.一种溶胶‑凝胶法制备高无机组分的有机硅‑SiO2杂化涂层的方法,其特征在于,采用溶胶‑凝胶法,以正硅酸四乙酯作为SiO2无机组分的前驱体,以有机硅作为有机组分,在空间材料表面制备高无机组份的有机硅‑SiO2杂化涂层;涂层中,无机组分SiO2占总质量最高达72wt.%。
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