[发明专利]一种基于材料热致透过率变化的超分辨非荧光成像方法有效
| 申请号： | 201710562808.2 | 申请日： | 2017-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN107478615B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 丁晨良;魏劲松 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01N21/59 | 分类号： | G01N21/59;G01N21/01 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种基于热致透过率变化的超分辨非荧光成像方法,包括在盖玻片上用磁控溅射的方法镀上下层导热层，在下层导热层上用磁控溅射的方法镀上中间变化层，在变化层上用磁控溅射的方法镀上上层导热层，将上述镀完薄膜的盖玻片紧贴于待测样品表面，且镀有薄膜的一面紧挨着测样品表面等步骤。本发明操作简单，只需要在原扫描系统中让聚焦光束透过一层薄膜结构，适用于多种形态的待测样品，并可以获得超过衍射极限的光学分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 材料 透过 变化 分辨 荧光 成像 方法 | ||
【主权项】：
一种基于材料热致透过率变化的超分辨非荧光成像方法，其特征在于该方法包括以下步骤：a)在盖玻片上用磁控溅射的方法镀上下层导热层；b)在下层导热层上用磁控溅射的方法镀上中间变化层；c)在变化层上用磁控溅射的方法镀上上层导热层；d)将上述镀完薄膜的盖玻片紧贴于待测样品表面，且镀有薄膜的一面紧挨着测样品表面；e)利用一束光功率密度小于2×109W/m2的弱光和一束同波长光功率密度大于2×109W/m2的强光照射同一区域，收集透过率信号；f)将弱光信号放大，放大比例为强光入射光功率密度与弱光入射光功率密度的比值，再将放大后的信号与强光信号相减，获得此处中心小于衍射极限调制区域的信号；g)采用点扫描的扫描显微镜系统，将光束透过盖玻片照射到待测样品表面上，以调制区域为最小分辨率点，逐点对待测样品表面进行扫描；f)收集扫描区域所有信号，最终成像。
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